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Improved GaAs HBT Device Linearity with Flattened Ft Curve

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海大指南针
发布2022-12-20 15:37:09
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发布2022-12-20 15:37:09
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文章被收录于专栏:iRF射频前端产业观察

小结

HBT器件的线性主要是由三个方面决定的:1. 跨导,2.Cbc,3.跃度时间。这篇文章研究了HBT器件的Ft曲线平坦度和线性的关系。

In conclusion, with this work we report on a novel epi profile with engineered Ft curve, a more flat Ft with current density, which results in improved device linearity. The new epitaxial structure is very well suited for applications where high device linearity is required.

全文引用自:CS MANTECH Conference, May 19th - 22nd, 2014, Denver, Colorado, USA

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原始发表:2022-07-10,如有侵权请联系 cloudcommunity@tencent.com 删除

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