截至收盘，容大感光上涨20%、南大光电上涨9.9%、晶瑞电材上涨6.42%、上海新阳上涨4.34%、彤程新材上涨4.03%、华懋科技上涨3.81%。...国产光刻胶厂商布局与最新进展： 目前国产g/i 线光刻胶供应商主要有晶瑞电材（苏州瑞红）、彤程新材（北京科华），总体在全球市场份额约10%； 在KrF光刻胶方面，国内的彤程新材（北京科华）、上海新阳、...在ArF光刻胶方面，国内的南大光电、晶瑞电材（苏州瑞红）、彤程新材（北京科华）、上海新阳、徐州博康（华懋科技持有约26%股份）等也都有布局，但没有实现大批量量产供货。...上海新阳 2021年6月30日晚间，上海新阳发布公告，宣布公司自主研发的KrF （248nm）厚膜光刻胶产品近日已通过客户认证，并成功取得第一笔订单。...2022年12月初，上海新阳在投资者互动平台表示，KrF光刻胶已批量化生产销售，新客户亦在持续开发中。
以下从各个环节罗列几个半导体知名企业： 一、半导体材料 1、彻底材料——硅片 沪硅产业、中环股份、神功股份、立昂微 2、衬底材料——化合物半导体 闻泰科技、华润微、捷捷微电、扬杰科技、新洁能、泰科天润、...斯达半导、比亚迪半导体、中车时代半导体、三安光电、海特高新 3、光刻胶 容大感光、晶瑞股份、南大光电、北京科华、上海新阳、雅克科技、飞凯材料、永太科技、北旭电子、华懋科技、彤程新材、强力新材 4、电子特气...华特气体、南大光电（61.81，-3.12%）、昊华科技、雅克科技（93.63，-1.43%）、金宏气体、巨化股份 5、CMP抛光材料 安集科技、鼎龙股份 6、高纯湿电子化学品 晶瑞股份、江化微、江阴润玛、上海新阳...、浙江凯盛、多氟多 7、靶材 江丰电子、阿石创、隆华节能、有研新材、安泰科技、长信科技、先导稀材 二、半导体设备 中微公司、上海新阳、北方华创、长川科技、华峰测控、晶盛机电、精测电子、至纯科技、芯源微、...捷佳伟创、上海微电子、格兰达、北京京运通 三、芯片设计 全志科技、汇顶科技、盈方微、兆易创新、富瀚微、北京君正、中颖电子、国科微、纳斯达、圣邦股份、欧比特、上海贝岭、士兰微、紫光国微（237.72，+3.36%
第二块：强力新材、南大光电、飞凯材料、瑞静股份、中欣氟材、多氟多、三美股份、安集科技、新华微、上海新阳、江丰电子、扬杰科技、三安光电， 这块主要是半导体材料为主，如光刻胶、氢氟酸等，都属于化学工业类，细分领域核心技术较多...第三块：兆易创新、长盈精密、纳思达、韦尔股份、东土科技、景嘉微、紫光国微、上海贝岭、国科微、国民技术、汇顶科技、欧比特、富满电子、北京君正、富瀚微、圣邦股份， 主要是半导体各部位的设计等，也是半导体细分分工领域...第四块，士兰微、台基股份、捷捷微电、景嘉微、海特高新、太极实业、华微电子、上海新阳、长电科技、通富微电、华天科技、晶方科技， 是半导体的制造以及封测等，虽说处于半导体下游，但在整个环节里面处于至关重要，
以及国内封测厂陆续扩大产能，将持续带动测试设备市场高速增长； 江丰电子：公司是国内最大的半导体芯片用溅射靶材生产商，重视研发，取得了一系列研发成果，核心技术达到国际先进水平； 晶瑞股份：公司是国内最大的湿电子化学品及光刻胶龙头...，技术及客户资源方面优势领先，受益下游行业景气回升以及国产替代趋势，未来增长可期； 立昂微：公司“硅片+分立器件”一体化布局，业绩优秀； 南大光电：干法/湿法ArF光刻胶承担02专项，ArF生产线建成投产...； 上海新阳：KrF、ArF光刻胶产能建设。
目前中国上海新昇半导体科技有限公司已具备12英寸硅片的生产能力，并通过了上海华力微电子有限公司和中芯国际集成电路制造有限公司的供应商验证。...除此之外，江丰电子和晶瑞股份已分别在溅射靶材和光刻胶领域打破了国外厂商垄断格局，推动了中国半导体靶材和光刻胶材料国产化进程。...此外，抛光液和抛光垫、光刻胶配套试剂、光刻胶、湿化学品、溅射靶材的占比分别为7.2%、6.9%、6.1%、4%和3%。...在大尺寸硅片领域，上海新阳，天津中环股份有限公司、上海新昇正积极研发12寸硅片，目前中国仅有上海新昇生产出12寸硅片并已通过上海华力和中芯国际验证； ② 在靶材方面，以江丰电子和有亿研金新材料有限公司（...中国目前仅有北京科华微电子有限公司和苏州瑞红电子化学品有限公司两家光刻胶生产企业，其中苏州瑞红生产的i线光刻胶产品已通过行业下游厂商测试，可为下游厂商供货； ⑤ 在CMP抛光液方面，安集微电子科技（上海
---- 新智元报道 编辑：snailnj David 【新智元导读】疫情之下，晶圆厂「造芯」受阻怎么办？别急，让光刻胶「飞一会儿」！...受疫情影响，目前国际航空货运运力持续紧张，对于光刻胶这种危险品，物流链条上还存在危冷库周转率低、危化品查验时间长等因素，要按时将光刻胶运抵上海，满足生产需要，其困难可想而知。...光刻胶经过几十年不断的发展和进步，应用领域不断扩大，衍生出非常多的种类，根据应用领域。按照用途来讲，光刻胶可分为半导体光刻胶、面板显示光刻胶和PCB光刻胶，其技术壁垒依次降低。...而现今，国产PCB光刻胶中的干膜光刻胶几乎全部依赖进口，LCD光刻胶中的TFT-LCD光刻胶也大部分依赖进口。...与中芯国际并列的国产芯片代工巨头 华虹半导体前身可追溯至1996年成立的上海华虹微电子有限公司（现华虹集团），其于2014年10月在香港联交所主板上市。
今年 10 月 7 日美国BIS出台管制新规制裁我国半导体先进制程产业，短期对集成电路制造业各环节造成一定冲击，但长期来看我国集成电路产业必将走上独立自主创新之路，管制新规将进一步催化设备及材料端国产化趋势...其中，截至今年9月，上海新昇的12吋硅片出货量已超340万片。 三、掩膜版：图形转移传送带，光刻复制的蓝本 掩膜版是微电子制造过程中的图形转移母版，是半导体行业生产制造过程中重要的关键材料。...中国电子特气市场方面也由四家公司垄断，市场份额分别为空气化工24.8%、林德 22.6%、液化空气 22.3%、大阳日酸 16.1%，共 85.8%。国产厂商占比不到15%。...光刻胶组分决定了光刻胶的质量，也是光刻胶技术壁垒所在。 国内知名光刻胶企业包括南大光电、晶瑞电材、彤程新材、上海新阳等。由于我国光刻胶产业起步较晚，目前市场份额占比较低。...目前国内的湿电子化学品企业主要有巨化股份（中巨芯）、上海新阳、多氟多、江化微、晶瑞电材、湖北兴发集团、飞凯材料、盛剑环境、石大胜华等，不过与全球头部湿电子化学品厂商所提供的产品仍有一定的差距。
这篇笔记分享一篇光栅耦合器的最新进展，IMEC与Ghent大学的研究小组在硅光芯片背面加工出微透镜(microlens), 将光场的MFD提高到32um, 其1dB的对准容差可以提高到±7um，为硅光芯片的无源对准提供了新的思路...（图片来自文献1） 首先将硅光芯片的衬底减薄到600um，在芯片正面涂覆光刻胶用于保护，在芯片背面涂覆光刻胶用于后续的透镜加工。接着进行光刻，必须保证正面和背面图案的对准精度达到1um以上。...对剩余的光刻胶进行回流和烘烤，形成微透镜形状的光刻胶。接着进行RIE刻蚀，得到硅的微透镜。最后清洗掉正面的光刻胶。
最近SunSmart推出了一款新的应用，名字叫“seeUV”，顾名思义，就是看见紫外线辐射的意思，它利用AR增强现实技术，并结合气象部门的实时数据来提供肉眼不可见的UV的可视图像，并在UV指数达到设定值时向用户发出警报
首先他往晶圆片上涂光刻胶 （Photoresist）。 再把需要的电路图案制成带一层铬的石英掩膜版，掩膜版的作用相当于洗相片时候的底片。...下一步他用激光把掩膜版上的电路图案投射到晶圆，让掩模产生的阴影位置控制光刻胶在晶圆片表面发生化学变化的位置。...后面的步骤就像洗相片一样，倒上显影液，用酸（小伙用的是白醋）腐蚀晶圆的暴露部分，洗掉残留的光刻胶。...再加上亿点点工艺细节，包括同质外延、异质外延、伪外延、扩散掺杂、铜互连层、化学机械抛光、涂光刻胶、酸蚀刻和光掩模曝光。...他的最新进展是把自制芯片升级到了集成1000个晶体管。 视频地址： https://www.youtube.com/watch?
---- 新智元编译 来源：ai.googleblog.com 翻译：小潘 【新智元导读】自然语言理解研究的快速发展，特别是在学习语义文本表示方面的发展可以促进一些新颖的产品，如自动写作和“Talk...本文介绍了谷歌在语义文本表示方面的最新进展，以及开源的两个新模型。...下面，我们将讨论两篇关于Google语义表示最新进展的论文，以及在TensorFlow Hub上可以下载使用的两个新模型，我们希望开发者能够使用这些模型来构建新的、令人兴奋的应用程序。...语义文本相似度 在“从对话中学习语义文本相似性（Learning Semantic Textual Similarity from Conversations）”这篇论文中，我们引入了一种新的方法来学习语义文本相似性的句子表示...新模型 除了上面描述的通用句子编码器模型之外，我们还在TensorFlow Hub上共享两个新模型：通用句子编码器-large版（Universal Sentence Encoder - Large）
React 18 工作组 宣布 React 18 从 Alpha 进入 Beta 阶段，Beta 是测试版本， 大部分工作都是对 Alpha 版本发布的新特性进行文档优化、功能测试和改进，在最终版本发布之前...不会有任何额外的新特性或 API 。...关于 React 18 Alpha 版本已发布 的新特性可以查看此新闻： React 18 最新进展：发布 alpha 版本、全新 SSR 架构 。...在内部使用新的 useSyncExternalStore API 来确保与 React 18 并发特性的兼容性。
与此同时，一个新的几何一致性正则化项被施加到逐渐refine的中间特征来保持其较好的结构布局。...5. 8x 视频插帧 可视化结果 五、总结 本文新提出了一个高效的不需要额外级联合成网络或refinement模块的视频插帧深度架构IFRNet。...此外，新提出的面向任务的光流蒸馏损失与特征空间几何一致性损失分别促进了中间运动估计与中间特征重建。
本文是胡新辰针对知乎问题“有哪些LSTM(Long Short Term Memory)和RNN(Recurrent)网络的教程？”...的答案，对LSTM学习教程、资料以及最新进展介绍总结的很详细，很有参考价值。...老的就不说了，就提一些比较新比较好玩的。
每一天，我们都会形成新的记忆、获取新的知识或完善现有的技能。这与我们当前的计算机形成鲜明对比，计算机通常只执行预编程的操作。 我们适应性的核心在于突触可塑性。...在这样做的过程中，算法表现出了惊人的创造力：「例如，算法发现了一个新的可塑性模型，其中我们定义的信号被组合成一个新信号。事实上，我们观察到使用这个新信号的网络比以前比使用已知规则的网络学习得更快。」...这些发现将为健康和患病的大脑如何工作提供新的见解。还可能为开发能够更好地适应用户需求的智能机器铺平道路。
5月19日，中国科学院上海药物研究所研究员丁侃团队/李佳团队联合复旦华山医院教授花荣团队，在《肝脏病学杂志》（Journal of Hepatology）上，发表了题为Hepatic glucuronyl...该研究揭示了新的代谢调控分子Glce介导肝脏-脂肪“cross-talk”信号传导调节能量稳态的重要作用，并加深了科学家对人体肝脏中Glce与肥胖或NAFLD/NASH等代谢综合性疾病相关性的认知，提示了...研究工作得到国家自然科学基金、上海市和临港实验室等的支持。 肝脏中Glce调控GDF15分泌影响肝脂代谢的新机制
说起来南大光电，第一次了解它是因为要找TMG，就是一种用来给薄膜掺杂的前驱体Mo源，在上海半导体展看过他们的展台。后面由于纯度不够，还是找了日本的。...南大光电是一家专业从事先进电子材料研发、生产和销售的企业，公司现有业务包括MO源、ALD/CVD前驱体、高纯电子特气和光刻胶及配套材料四大类，其中像MO源、ArF先进光刻胶等多项产品打破国外企业的垄断，
根据《规划》，到2025年，上海将在经济、生活、治理这三大领域构建“20新”，助力全面推进城市数字化转型取得显著成效。 确立1个总目标、16项具体指标 全面推进城市数字化转型事关上海全局和长远发展。...“十四五”时期是推动上海整体迈入数字时代，全面构筑未来城市新形态、战略新优势的关键阶段。...“五个新城”将构建“全域转型新标杆” 为更好地将上述目标任务化为现实，上海此次对如何贯彻落实《规划》进行深入思考，提出要围绕“四新”发力，加快推进城市数字化转型。...首要的“新”，是夯实数字化转型“新基础”。据透露，上海未来将更加强调以数据要素为核心，提高数据治理和应用创新的能力。...第二个“新”是强化场景牵引，满足数字化转型“新需求”。上海明确，数字化转型将突出以企业和市民普遍关心的“高频”以及“急难”问题作为牵引，坚持“以人为本、场景牵引、急用先行”原则。
前几天在朋友圈发了个关于「程序员新冠感染情况」的问卷调查，共有1077位程序员朋友参与。下面是本次调查的一些结果。...感染比例 由于参与问卷的主要是程序员，所以人员分布以互联网行业较发达的城市居多（北京、深圳、上海、杭州、武汉等）。 参与调查的程序员中，有25%阳了。那么不同城市的程序员阳的比例有多少呢？...上榜的城市均属「感染高峰时间预测」中提及的「较早迎接冲击的省份」： 同为互联网热门城市，下面3个城市的感染率较低： 上海5.7% 深圳3.9% 杭州1.7% 其中，上海与杭州在上述「感染高峰时间预测」...前三名分别是： 天津20% 成都与重庆同为14.3% 上海12.5 哪个城市的程序员更多居家办公（平均值是59.7%）呢？...前三名分别是： 北京67.5% 广州63.6% 武汉60% 哪个城市的程序员阳了后更多选择休息（平均值是30.6%）呢？前三名分别是： 上海50% 重庆42.9% 天津40% 和血型有关么？
芯片少不了光刻胶这种原料，小彭同学花了不少力气，终于淘到了一小瓶光刻胶（150元），光刻胶的外袋是黑色遮光的，但Bug的是装光刻胶的瓶子却是透明的，所以说不能一拿到手就打开，一旦随意打开就容易全部曝光了...还要把光刻胶进行分装，大概每次3-4ml，取胶剂、显影液的就准备自己调试一下。 由于光刻胶的瓶子都是日本进口的，小彭同学不仅感叹：我们还有很多需要学习的地方，比起现有的技术还有很大的距离。...仔细阅读光刻胶说明书。把玻璃片进行悬涂之前，要用氮气除去表面的灰尘。 再开始滴一些光刻胶，就可以开始旋涂了。细节部分也很充分，风扇的转数需要达到4000转以上，否则达不到效果。...有的网友劝毕业后直接去上海微电子应聘，评论区也有博世精密大佬邀请一起合作研发~ 光刻机技术目前属于尖端技术，那是因为我们还尚未突破，一旦突破了，就不是尖端了！...目前国内最为先进的技术在上海微电子的，国产光刻机精度大约是28纳米，中芯国际目前掌握的技术为14纳米，而华为目前所需的芯片精度为5纳米和7纳米。
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