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为什么 strace 在 Docker 中不起作用?

在编辑“容器如何工作”爱好者杂志的能力页面时,我想试着解释一下为什么 strace 在 Docker 容器中无法工作。...我想知道为什么会出现这种情况。...为什么?! 假设 2:关于用户命名空间的事情? 我的下一个(没有那么充分的依据的)假设是“嗯,也许这个过程是在不同的用户命名空间里,而 strace 不能工作,因为某种原因而行不通?”...但得出的结果是一样的。) 这很容易解释为什么 strace 在 Docker 容器中不能工作 —— 如果 ptrace 系统调用完全被屏蔽了,那么你当然不能调用它,strace 就会失败。...为什么 --cap-add=SYS_PTRACE 能解决问题? 我们还没有解释的是:为什么 --cap-add=SYS_PTRACE 可以解决这个问题?

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    等离子清洗机中射频等离子体的工作机理

    具体来说,PLUTO-T型等离子清洗机中的射频等离子体是通过一个射频发生器产生的。该发生器会产生高频电场,将气体离子化并加热,形成高温高能的等离子体。...这些等离子体被喷射到待清洗的物体表面,通过碰撞和化学反应来去除表面的污垢和污染物。射频等离子体清洗的过程中,有两个主要的作用机制。...首先是物理作用机制,射频等离子体的高能粒子会与物体表面碰撞,将污垢物理性地击碎并迅速蒸发。其次是化学作用机制,等离子体中的高能粒子会引发化学反应,将表面的污染物转化为易挥发的物质,从而实现清洗效果。...PLUTO-T型等离子清洗机的工作机理使其在清洗过程中具有高效、彻底的特点。射频等离子体的高能粒子能够深入物体表面,清除微小的污垢和残留物,使清洗效果更加出色。...其工作机理的独特性使其能够应对不同类型的物体和污染物,具备广泛的适应性和应用前景。总而言之,PLUTO-T型等离子清洗机中射频等离子体通过离子轰击和化学反应的双重

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    等离子清洗机中氧等离子体刻蚀对石墨涂层的性能研究

    在氧等离子体轰击石墨涂层的过程中,基本的反应就是,氧等离子和石墨涂层中的表层C原子发生氧化反应,不论是生成了CO2或者CO,在等离子清洗机的反应腔内,是属于一种真空状态,所以反应的气体就会被抽离真空反应腔...各向异性垂直的刻蚀机制并不是字面理解直接垂直,而是指的是,氧等离子体在与表层的石墨涂层缺陷反应结束以后并不会重新寻找下层的石墨涂层中的缺陷,而是将顶层的完整的石墨涂层刻蚀结束才会与第二层的石墨涂层发生反应...,而相反各项异性水平刻蚀机制是指的是在同时刻蚀缺陷的情况下,氧等离子体刻蚀会优先寻找下层的缺陷在上层石墨涂层的缺陷被刻蚀的同时氧等离子体会优先寻找下层石墨涂层的缺陷,对于整体的石墨涂层陷刻蚀速率远大于非缺陷处的刻蚀速率...,在这种刻蚀机制的刻蚀下,石墨涂层的氧等离子刻蚀是属于层-层-层的刻蚀,而且在接近单层刻蚀的时候,刻蚀速率降低,石墨涂层底层的缺陷也不会扩大会得到很有效的控制和保证石墨涂层的完整性,从理论上说经过可控的等离子射频功率...,等离子体的流量,一定程度上可以制备出可控缺陷的石墨涂层。

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    等离子清洗技术在DCDC混合电路中的应用

    2.去除厚膜基板导带上的有机沾污选择氩气/氧气混合气作为清洗气体,清洗功率200~300W,清洗时间300~400s,气体流量500sccm, 可以有效去除金导体厚膜基板导带上的有机沾污3.去除外壳表面氧化层通过氩气或氢气作为清洗气体的射频等离子清洗...由于等离子体在清洗舱内分布较为均匀,可以实现复杂结构及狭小部位的清洗,选择氢气作为清洗气体时,清洗功率200~300W,清洗时间400~600s,气体流量200sccm,经过射频等离子清洗后, 焊料在管壳上浸润性良好...,即硅铝丝外围突起的金属圈,表明硅铝丝与芯片焊盘上的铝相互扩散、接触良好,而没有经过清洗的芯片,采用同样的键合参数,硅铝丝在芯片焊盘上基本没有扩散结论射频等离子清洗技术在DC/DC混合电路生产的多个环节中起到关键作用...:(1)射频等离子清洗可以去除背银芯片硫化物、金属外壳表面氧化物及厚膜基片上的有机沾污,提升焊接及粘接的可靠性;(2)射频等离子清洗可以提高金属盖表面活性,提升油墨在金属盖板上的浸润性;(3)射频等离子清洗可以提升芯片表...而不当的射频等离子清洗带来的陶瓷厚膜基板渗胶问题可通过静置或高温烘烤以降低厚膜基板表面 活性来解决,MOS器件损伤问题可通过降低清洗功率及清洗时间或采用微波等离子清洗来解决。

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    Android Layout的layout_height等属性为什么会不起作用?

    有的时候,我们配置好的布局文件,在加载完成添加到我们的Activity中后发现,并没有安装我们设置的属性来布局,比为我们设置了android:layout_marginTop=“100dip”,但是运行程序后发现一点作用都没有..., null);这句代码上,在使用inflate的时候,如果第二个参数(View root)为null,那么将不会加载你的布局文件里的最顶层的那个布局节点的布局相关配置(就是以android:layout...方法,这样系统框架就会自动使用该布局读取我们在xml中配置的布局属性来控制我们的VIew的位置。。...基于以上分析,我们在使用LayoutInflate的inflate方法的时候一定要保证root参数不能为null,其实这个root就是父View的意思,就是说你把xml转换为一个VIew的时候,该VIew...说到这个问题了,其实还有一些布局,他们的参数配置要满足一定的条件才会起作用,比如FrameLayout里的View,你要想它的leftMargin生效,必须指定它的layout_gravity为left

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    为什么你的自定义View wrap_content不起作用?

    前言 自定义View是Android开发中非常常用的知识 可是,在使用过程中,有些开发者会发现:为什么自定义View 中设置的wrap_content属性不起作用(与match_parent相同作用...问题分析 问题出现在View的宽 / 高设置,那我们直接来看自定义View绘制中第一步对View宽 / 高设置的过程:measure过程中的onMeasure()方法 onMeasure() protected...解决了问题2:wrap_content起到与match_parent相同的作用 那么有人会问:wrap_content和match_parent具有相同的效果,为什么是填充父容器的效果呢?...问题总结 在onMeasure()中的getDefaultSize()的默认实现中,当View的测量模式是AT_MOST或EXACTLY时,View的大小都会被设置成子View MeasureSpec的...总结 本文对自定义View中 wrap_content属性不起作用进行了详细分析和给出了解决方案 接下来,我我将继续对自定义View的应用进行分析,有兴趣的可以继续关注Carson_Ho的安卓开发笔记

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    为什么你的RAG不起作用?失败的主要原因和解决方案

    ,但核心思想可以推广到其他用例 为什么选用RAG?...对于RAG,给它一个问题,可能还有用户特定的信息,它将返回最相关的上下文给GPT。虽然这在理论上听起来很棒,但在实现生产级RAG时存在重大挑战,我们将在接下来的部分中探讨。...传统RAG(定义):一个单步语义搜索引擎,它将业务知识(如支持文档)存储在向量数据库中,如Pinecone,使用现成的嵌入模型。...诊断和缓解语义不协调 在这个示例中将介绍如何诊断RAG中的完全语义不协调。我们还将介绍如何通过增加结构来提高性能的早期迹象。 这个例子来自现实生活中的用例。...结构化数据 可以通过增加结构来改善RAG,这是首先将问题链接到现有的问题库,随后将指导你找到正确的答案。这与直接将问题链接到单步中的正确文本相反。

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    Git中.gitignore文件不起作用的解决以及Git中的忽略规则介绍

    201 次查看 使用Git管理代码的过程中,可以修改.gitignore文件中的标示的方法来忽略开发者想忽略掉的文件或目录,如果没有.gitignore文件,可以自己手工创建。...在.gitignore文件中的每一行保存一个匹配的规则例如: *.a      # 忽略所有 .a 结尾的文件 !...lib.a   # 但 lib.a 除外 /TODO # 仅仅忽略当前目录下的 TODO 文件,不包括 其他目录下的/TODO build/   # 忽略 build/ 目录下的所有文件 doc/*.txt...原因是git忽略目录中,新建的文件在git中会有缓存,如果某些文件已经被提交到版本管理中,就算是在.gitignore中声明了忽略文件也是不起作用的,这时候我们就应该先把本地缓存删除,然后再进行git...清除本地缓存命令如下: git rm -r --cached . git add . git commit -m '更新 .gitignore' 查了资料发现,想要.gitignore起作用,必须要在这些文件不在暂存区中才可以

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    Git中.gitignore文件不起作用的解决以及Git中的忽略规则介绍

    在Studio里使用Git管理代码的过程中,可以修改.gitignore文件中的标示的方法来忽略开发者想忽略掉的文件或目录,如果没有.gitignore文件,可以自己手工创建。...在.gitignore文件中的每一行保存一个匹配的规则例如: # 此为注释 – 将被 Git 忽略 *.a # 忽略所有 .a 结尾的文件 !...doc/*.txt # 会忽略 doc/notes.txt 但不包括 doc/server/arch.txt 在填写忽略文件的过程中,我发现在Android Studio里面,.gitignore中已经标明忽略的文件目录下的文件...,当我想git push的时候还会出现在push的目录中,原因是因为在Studio的git忽略目录中,新建的文件在git中会有缓存,如果某些文件已经被纳入了版本管理中,就算是在.gitignore中已经声明了忽略路径也是不起作用的...,这时候我们就应该先把本地缓存删除,然后再进行git的push,这样就不会出现忽略的文件了。

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    为什么说敏捷开发是应用程序的未来?

    2、可以工作的软件重于求全而完备的文档。 3、客户协作重于合同谈判。 4、随时应对变化重于循规蹈矩。 5、人员彼此信任,人少但是精干,可以面对面的沟通。 二、为什么有人说敏捷开发是应用程序的未来?...在过去的几十年中,大多数企业都是使用传统的“瀑布”方法进行应用程序开发。这种方法通常用于管理整体软件项目,但出于某种原因,敏捷开发在应用程序开发领域变得越来越突出。...同样,应用程序开发过程的工作方式也在发生变化。应用程序越来越多地由松散耦合的微服务组成,而不是封装在单个代码库中。通过插入服务来添加新功能,这允许软件继续发展。...开发人员在称为Scrum的团队中工作,包括项目所有者、开发人员、测试人员、数据库设计人员和支持人员。...工具、策略和时间框架完全不同,这就是为什么超过一半的数字AI调查受访者表示,他们在使用敏捷实践方面“仍在成熟”,只有16%的人表示具有高水平的能力。

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    二次离子质谱(SIMS)技术在检测分析中的应用

    样品溅射:SIMS技术使用离子源产生的离子束(通常是金属离子,如Ar+)对样品表面进行轰击;离子束与样品表面相互作用,使样品表面的原子或分子被溅射出来。2....二次离子生成:溅射出的原子或分子在电场作用下获得足够的动能,从样品表面脱离并加速;这些溅射出的原子或分子在加速过程中与周围的原子或分子发生碰撞,产生新的二次离子。3....质谱分析:二次离子被引入质谱仪中,通过磁场和电场的作用,将二次离子按照质量-电荷比(m/z)进行分离和检测;通过分析二次离子的质量和浓度,可以获得样品表面和亚表面的化学成分和结构信息。...多元素分析:SIMS技术可以同时分析样品中多种元素的含量和分布;这对于研究样品中的多元素相互作用和协同效应具有重要意义。三、应用案例1....环境样品分析:SIMS技术可以用于分析环境样品中的污染物和重金属,如土壤、水体、空气等;通过SIMS分析,可以评估环境样品中的污染物含量和分布,为环境监测和污染治理提供科学依据。四、发展趋势1.

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