大家好，又见面了，我是你们的朋友全栈君。...if (nxtChildPoint.X < childPoint.X) { //找出同一行的子元素...b.TranslatePoint(new Point(0, 0), WpKeyWords).Y.Equals(childPoint.Y)).ToList(); //算出多余的空白宽度...var averageAddWidth = surplusWidth / tempLst.Count; //将多余的宽度平均分给当前行每个子元素
/// /// 解析空白符（空白，制表）分隔的字串 /// /// <param name="strs...strs) { ArrayList ar=new ArrayList(); //[^\s]+表示1一个以上的非空白符...，+至关重要；/s表示空白符； Regex re=new Regex(@"[^\s]+\s",RegexOptions.Multiline); Match
突然发现，idea右侧的常用的maven操作框没了，有点懵。。。。。 解决方式如下： 然后就出现了
在现代科技的推动下，等离子体技术在各个领域中扮演着重要角色。而PLUTO-T型等离子清洗机作为其中的一员，其独特的工作机理使其成为清洗领域的一颗璀璨明星。...PLUTO-T型等离子清洗机采用射频等离子体来进行清洗工作。射频等离子体是一种高能离子化的气体，具有高温、高能的特点。其工作原理基于电离和化学反应的相互作用，通过释放大量能量来清洗物体表面。...具体来说，PLUTO-T型等离子清洗机中的射频等离子体是通过一个射频发生器产生的。该发生器会产生高频电场，将气体离子化并加热，形成高温高能的等离子体。...这些等离子体被喷射到待清洗的物体表面，通过碰撞和化学反应来去除表面的污垢和污染物。射频等离子体清洗的过程中，有两个主要的作用机制。...其工作机理的独特性使其能够应对不同类型的物体和污染物，具备广泛的适应性和应用前景。总而言之，PLUTO-T型等离子清洗机中射频等离子体通过离子轰击和化学反应的双重
思路 这道题的核心思路是借助归并排序，在归并排序过程计算的同时，加入一点步骤来算出我们的结果，所以需完全理解归并排序的前提来理解。...众所周知，归并排序时，我们递归排序完左右区间，需要对两个区间进行合并有序数组，我们就是在合并有序数组时加入我们的特殊步骤，来到合并有序数组时： 现在需要将上图左右区间两个降序的数组，合并为一个有序数组，...正常归并排序思路每一数组定义一个指针，取大的尾插进入新数组，现在来到我们的尾插过程中： 因为是降序，所以每个指针遍历过的元素肯定是对应区间内较大的元素，尾插过程中就可能会出现如下两种情况： 1.nums...cur1指向的元素小，此时就可以将ret数组对应的cur1的下标位置的元素+=上cur2后面元素的个数。...注意：由于归并排序会改变元素的位置，我们需要创建一个index数组来记录原始下标，跟随原数组一起排序移动，才能方便ret数组的答案记录。
数组 counts 有该性质： counts[i] 的值是 nums[i] 右侧小于 nums[i] 的元素的数量。...示例: 输入: [5,2,6,1] 输出: [2,1,1,0] 解释: 5 的右侧有 2 个更小的元素 (2 和 1). 2 的右侧仅有 1 个更小的元素 (1). 6 的右侧有 1 个更小的元素...(1). 1 的右侧有 0 个更小的元素....采用归并排序的做法解决，具体做法如下： 首先新建一个类Node，用于封装每个元素的值及其原始下标，将原始数组转化为Node数组记做arr。...对arr以其存储的值为key进行归并排序，排序过程中需注意的是应从后往前排。
一般在Eclipse右侧有一个Outline的大纲，可以显示一个类的所有方法（如下图） ? 在intellij Idea中叫Structure（结构体），如下图； ?...当然，也可以直接Alt+F7快捷键，这样默认会把Structure显示在屏幕下方，如下图操作就可以移动到右侧。 ?
2.边缘太大原因 3.解决方法 4.关于函数setContentsMargins() 5.扩展 Qt的Layout边缘空白调整 最终效果： ?...但是这个控件被调用，但是这个控件边缘太大，看起来很丑，主要原因就是这个QHBoxLayout的边缘设置的太大。...下图：边缘设置为0后的效果 ?...2.边缘太大原因 边缘太大就是因为LedLabel.ui会自动生成一个文件ui_LedLabel.h，在这个里面有一段代码，将整体的这个QHBoxLayout的边缘默认设置的比较大 class Ui_LedLabel.../details/88065087 Qt的Layout边缘空白调整： https://blog.csdn.net/humanking7/article/details/88064393 Qt状态栏QStatusBar
：explorer.exe是Windows程序管理器或者文件资源管理器，它用于管理Windows图形壳，包括桌面和文件管理，删除该程序会导致Windows图形界面无法使用 解决方式：把图标缓存的数据库删除...cd /d %userprofile%\appdata\local del iconcache.db /a start explorer.exe exit 还是不行就找到文件原来位置的exe...如发现本站有涉嫌侵权/违法违规的内容， 请发送邮件至 举报，一经查实，本站将立刻删除。
介绍工艺之前，我们先聊一下昨天一个朋友提到的日本日新的离子注入设备。日本日新是全球3大离子注入设备商之一。 1973年的时候，该公司就开始做离子注入的工艺设备。 目前的主要业务设备如上表。...详细的可以去它主页了解。 重点介绍激光领域用到的一款设备： 主要是注入H离子用的，可以达到400KeV的H+离子注入。...日新株式会社将在扬州经济技术开发区投资兴建离子注入机设备生产厂。 离子注入工艺参数 00 离子注入就像上图一样，把离子砸到晶圆中。涉及到使用的力度、数量、角度，砸进去的深度等。...因此在一锅Plasma中，一价的离子是最多的。 一般的离子注入机都有电荷的能力，原理大家可以想象高中学的什么库仑作用力吧，带的电荷不同，电磁场中获得的动量不同。...如果我们只知道需要掺杂的剂量，和离子能量，如何计算注入离子在靶材中的浓度和深度 例如一个140KeV的B+离子，注入150mm的6寸硅片上，注入剂量Q=5*1014/cm2，衬底浓度2*1016
在氧等离子体轰击石墨涂层的过程中，基本的反应就是，氧等离子和石墨涂层中的表层C原子发生氧化反应，不论是生成了CO2或者CO，在等离子清洗机的反应腔内，是属于一种真空状态，所以反应的气体就会被抽离真空反应腔...，而相反各项异性水平刻蚀机制是指的是在同时刻蚀缺陷的情况下，氧等离子体刻蚀会优先寻找下层的缺陷在上层石墨涂层的缺陷被刻蚀的同时氧等离子体会优先寻找下层石墨涂层的缺陷，对于整体的石墨涂层陷刻蚀速率远大于非缺陷处的刻蚀速率...结论氧等离子刻蚀石墨涂层会使得上层石墨涂层的缺陷扩大，边界分离，粗糙度降低，还在一定程度上会给顶层的石墨涂层引入新的缺陷，这些结构变化会对石墨涂层的其他性能产生一定程度的影响，同时一定程度上证明了氧等离子刻蚀石墨涂层的刻蚀机制是一种各向异性的垂直刻蚀机制...，在这种刻蚀机制的刻蚀下，石墨涂层的氧等离子刻蚀是属于层-层-层的刻蚀，而且在接近单层刻蚀的时候，刻蚀速率降低，石墨涂层底层的缺陷也不会扩大会得到很有效的控制和保证石墨涂层的完整性，从理论上说经过可控的等离子射频功率...，等离子体的流量，一定程度上可以制备出可控缺陷的石墨涂层。
目前各国科学家及研发机构也在寻找克服锂离子电池缺陷的解决方法，改善使用痛点。 短路的元凶究竟是谁？ 锂离子电池最早由索尼在1991年推出，其原理是依靠离子在电极间运动产生能量。...与其优点比起来，锂离子电池的缺点很少，但是每个缺点都十分致命。 这其中严重的，就是锂离子电池内部的枝晶。电动汽车由于电池自燃引发的事故比比皆是，而自燃的主要原因，就是电池内短路。...不过与锂相比，钠更重，制成的钠离子电池储能能力也不如锂离子电池。 换种方式，继续使用锂 除了锂离子电池，现在也有研究机构在研发锂金属电池。...与锂离子电池不相同的是，锂金属电池采用金属锂作为负极，依靠金属锂的氧化反应产生电能；而锂离子电池使用石墨作为负极，以含锂化合物作为正极，依靠锂离子不断获得、失去电子来实现电能传输。...与锂离子电池不同，锂金属电池中的锂离子获得电子后，直接以金属锂颗粒的形式，附着在负极上，从而形成枝晶状图案。
NIST量子计算实验中使用的离子陷阱（Ion trap），通过用两种不同种类离子形成的量子比特进行逻辑运算。...来自NIST的团队在《自然》杂志上报告了他们成功地将铝离子（Mg）和铍离子（Be）纠缠起来，然后运用这样的纠缠离子展示了2种重要的逻辑运算：CNOT闸（受控反闸，Controlled-NOT）和SWAP...由于是不同种离子的纠缠，所以不同的离子会对不同波长的光有反应，那么它们就能被分开来单独侦测；也就是说，一个离子对于某种脉冲产生反应时，另一个是不会受到脉冲影响的。...不同种离子的纠缠也会在另一方面有反应差异。一个离子需要得到强力的轰击才能改变它的量子状态，但随后它能够在新的量子状态中保持更长的时时间——它的退相干（decoherence）时间很长。...，将离子推往陷阱的不同区域。
有时候在导入项目的时候如果有些奇葩项目没有在根目录下建pom的时候，idea就不会标识其为maven项目，并右侧不会显示出maven相关的标签。 这个时候，我们就麻瓜了。 那么该怎么办呢？...这样，添加Maven Project的就出来了。就不会尴尬了。
2.去除厚膜基板导带上的有机沾污选择氩气/氧气混合气作为清洗气体，清洗功率200~300W，清洗时间300~400s，气体流量500sccm， 可以有效去除金导体厚膜基板导带上的有机沾污3.去除外壳表面氧化层通过氩气或氢气作为清洗气体的射频等离子清洗...由于等离子体在清洗舱内分布较为均匀，可以实现复杂结构及狭小部位的清洗，选择氢气作为清洗气体时，清洗功率200~300W，清洗时间400~600s，气体流量200sccm，经过射频等离子清洗后， 焊料在管壳上浸润性良好...，即硅铝丝外围突起的金属圈，表明硅铝丝与芯片焊盘上的铝相互扩散、接触良好，而没有经过清洗的芯片，采用同样的键合参数，硅铝丝在芯片焊盘上基本没有扩散结论射频等离子清洗技术在DC/DC混合电路生产的多个环节中起到关键作用...：（1）射频等离子清洗可以去除背银芯片硫化物、金属外壳表面氧化物及厚膜基片上的有机沾污，提升焊接及粘接的可靠性；（2）射频等离子清洗可以提高金属盖表面活性，提升油墨在金属盖板上的浸润性；（3）射频等离子清洗可以提升芯片表...而不当的射频等离子清洗带来的陶瓷厚膜基板渗胶问题可通过静置或高温烘烤以降低厚膜基板表面 活性来解决，MOS器件损伤问题可通过降低清洗功率及清洗时间或采用微波等离子清洗来解决。
本站DeveWork.com 右侧边栏有个“类Metro风格侧边栏”的小工具，半年前的时候微软所带来的“Metro风格”（也叫Modern 风格、Windows UI）还挺流行，因此当初在设计这个主题的时候想着运用一下...综合使用两种方法的好处是，减少了http 请求数，进而减少服务器负载，实现加速的效果。经过多次测试，兼容性非常不错。...“类Metro风格侧边栏” 实现思路 首先Jeff 的话先上网找了一下Windows Phone 的一些图片，看看在竖屏的手机界面Metro 的格子是如何摆放的，最后确定了如下： ? ?...想着为某些格子加上些“动画”效果（如最后的“联系”与“WordPress”的格式，鼠标移动上去会有“动画”），于是便设计了hover 后的图片，打算用CSS Sprite，先合并在原来的图片上。...在我写这篇文章，发现半年前的代码其实还可以优化一下，但，偷懒了。至于所谓“动画”的实现，还可以高级一点，比如用jquery 实现更加漂亮的效果、或者CSS3特效，但，技术上还达不到。
1、需求： 有个表格，单元格内容里有不确定的空白，需要替换为1个特定的符号。...3、代码实现 如果空格确定的话，直接查找替换就可以，但是空格是不确定的，同时也不确定存在几段这种空白。...所以程序必须考虑到多段不确定空白的情况： 使用InStr找到空格开始的位置 使用Loop找到非空白处 这样就确定了一段非空白的起止位置。...'清除左、右的空白 str = VBA.LTrim$(str) str = VBA.RTrim$(str) Dim i As Long Dim first...& VBA.Mid$(str, last + 1) End If If last + 1 < iLen Then '可能有多段的空白
等离子清洗机对橡胶模具的研究本文主要论述了等离子清洗机清洗橡胶制品模具技术进行了工艺研究，构建等离子体清洗实验装置系统和建立清洗质量的评价方法。...等离子体清洗橡胶模具能量祸合作用等离子体清洗橡胶模具主要是利用等离子体束高能粒子的活化作用,产生热冲击、活化分解或小部分燃烧汽化,从而使模具表层橡胶污染物脱离模具表,面达到清洗目的。...清洗层状污染物能量耦合作用当等离子体热源经过时，橡胶模具表而的污染物吸收等离子体激发态粒子的能量，并向基体表面和内部传递热量，从而产生自身特有的能量耦合作用。...为了深入分析等离子体清洗层状致密污染物的原理，这里我们需要对层裂应变进行计算，同时对等离子体与工件间的能量耦合机制进行有限元分析分析。...结论本文主要分析了等离子体清洗斑状颗粒污染物的界面清洗力，这个清洗力主要是污染物与基体间的粘结力。当等离子体清洗斑状污染物的界面清洗力大于粘结力时，污染物才能被清除。
做代谢研究的朋友们应该都很熟悉一个R包xcms，此包功能很强大，可以直接获得对应的离子峰数据。并且也提供了一个离子在metLin数据库的匹配功能。...我们今天就介绍其依赖的一个确定离子峰的R包CAMERA。此包主要用来识别样本的离子峰，从而获得一个样本中所具有的离子峰总数，以及对应的每个离子峰的核质比和保留时间。...2. annotateDiffreport 多样本注释离子峰。此部分利用了xcms中的获取峰面积的函数。最后获得和xcms一样的一个差异分析报告，但是多了对离子的分组。...3. findAdducts 在上面获得离子峰后，由于不同的电离模式样本所带的标准离子H, Na, K, NH4和CL都可能的结合。...7. groupFWHM 获取样本的伪谱信息，将数据基于保留时间进行分组。然后基于groupCorr对各离子之间行进基于离子峰面积的离子归类。至此获得校正后的各离子数据。
一个元素如果被设置为display：inline-block，那么这个元素将表现为行内块的性质。...被设为行内块的元素 对内（子元素）表现为块级框，具体为可以设置高度宽度，可以设置垂直margin和padding等；对兄弟元素 则表现为行内框，具体表现为相邻行内块可在同一行显示，而且有着行内元素的特点...，就是框与框之间可以出现 空白，造成空白的方式可以使“空白符，制表符，换行符”。...可以通过简单的方式消除行内块之间的空白，就是在行内块的包含块上设置属性： .wrapper{font-size: 0;*word-spacing: -1px;} font-size设为0，可以让这些空白符的大小为...综上，修正行内块元素之间空白的方式的实现： @media screen and (-webkit-min-device-pixel-ratio:0) { .wrapper
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