新签订单稳步增长，中微公司2022年净利润同比增加15.66％

集微网消息，2月27日，中微公司公布2022年度业绩快报，公司2022年实现营业收入47.40亿元，较上年同期增长52.50%，再创历史新高。公司2022年新签订单金额约63.2亿元，较2021年增加约21.9亿元，同比增加约53.0%，订单销售比达到1.33。

报告期内，归属于母公司所有者的净利润11.70亿元，较上年同期增加15.66%；归属于母公司所有者的扣除非经常性损益的净利润为9.20亿元，较上年同期增加183.44%；基本每股收益1.90元。

中微公司指出，公司主打产品等离子体刻蚀设备是除光刻机以外最关键的微观加工设备，是制程步骤最多、工艺过程开发难度最高的设备。由于光刻机的波长限制和2维芯片到3维芯片的发展，等离子体刻蚀设备越来越成为卡脖子的设备，也成为十大类关键设备市场最大的一类，占半导体前道设备总市场的约25%。公司布局的薄膜设备（主要是化学薄膜和外延设备）是除光刻机和刻蚀机外第三大设备市场。

此外，中微公司通过投资布局了第四大设备市场——光学检测设备。公司另一个主打产品MOCVD设备是三五族化合物半导体制造的最关键的核心设备。这种高端外延设备从照明，向大面积显示屏、功率器件、微显示等新兴领域迅速扩展，市场领域扩展迅猛。全球有能力参与高端设备主流市场竞争的企业非常有限，中微公司在这些高端设备领域已有领先的布局和影响力。至2022年底，公司累计已有3,311台等离子体刻蚀和化学薄膜的反应台，在国内、亚洲和欧洲的106条生产线，全面实现了量产和大量重复性销售，赢得了众多客户和供应厂商的信任和支持。

公司的CCP电容性高能等离子体刻蚀设备持续得到众多客户的批量订单，市场占有率不断提升，累计已有2,320台反应台在生产线合格运转。在国际最先进的5纳米芯片生产线及下一代更先进的生产线上，公司的CCP刻蚀设备均实现了多次批量销售，已有超过200台反应台在生产线合格运转。公司的ICP电感性低能等离子体刻蚀机自推出以来，不断地核准更多的刻蚀应用，迅速的扩大了市场并收到领先客户的批量订单，已在超过20个客户包括逻辑、DRAM和3D NAND等各类芯片生产线上进行超过100多个ICP刻蚀工艺的量产，并持续扩展到更多刻蚀应用的验证，发展势头强劲。同样应用ICP技术的8英寸和12英寸深硅刻蚀设备在先进系统封装、2.5维封装和微机电系统芯片生产线等刻蚀市场继续获得批量重复订单。

除刻蚀设备外，公司制造的氮化镓基LED的关键设备MOCVD设备在新一代Mini-LED产业化中，在蓝绿光LED生产线上取得了绝对领先的地位。公司正在开发的用于氮化镓和碳化硅功率器件的外延设备，以及制造Micro-LED的MOCVD专用设备，将陆续推向市场。此外，公司的各种新产品开发，包括用于更先进微观器件制程的极高深宽比刻蚀设备、LPCVD薄膜设备、EPI外延设备和多种MOCVD设备，也取得了可喜的进展，即将为公司贡献销售收入。