据媒体报道,在日本政府考虑如何应对美国对华半导体出口管制新规之际,中国在用于制造芯片的光刻胶等特殊化学品上对日本的依赖正引发连锁反应。鉴于日本可能对华限制出口以及光刻胶产能紧张等因素,中国投资者当前已表现出争相投资一些有能力或有潜力生产可替代日本产品的光刻胶公司。
全球光刻胶市场格局:日美厂商占据垄断地位
众所周知,光刻胶是半导体芯片制造过程中所必须的关键材料。由于目前光刻机曝光光源一共有六种,分别是紫外全谱(300~450nm)、 G 线(436nm)、 I 线(365nm)、深紫外(DUV,包括 248nm 和 193nm)和极紫外(EUV),相对应于各曝光波长的光刻胶也应运而生,对应分别为,g 线光刻胶、i 线光刻胶、KrF光刻胶、 ArF光刻胶、EUV光刻胶。
从全球光刻胶市场来看,据数据显示,2020 年各细分半导体光刻胶产品厂商市场主要被日美厂商所占据:
g/i 线:东京应化占比 25.2%,陶氏杜邦占比 19.1%,住友化学占比 15.7%;KrF:东京应化占比 31.4%,信越化学占比 21.9%,合成橡胶占比 20.9%,陶氏杜邦占比 10.9%;ArF:合成橡胶(JSR)占比24.9%,信越化学占比 21.8%,住友化学占比 16.8%,东京应化占比15.8%;EUV:东京应化占比51.8%,另外合成橡胶(JSR)也有不小的份额。
国产光刻胶替代的契机来了
据悉,南大光电公开表示,他们公司的ArF光刻胶已经建成了年产25吨的生产线,目前已处于客户验证的阶段,一旦客户的订单需求大,那么他们就能进入到量产的时间。言下之意就是他们已经有足够多的生产实力来缓解光刻胶被断供的局面。对此,外媒也直言:国产光刻胶替代的契机来了。
在光刻胶这个行业,美、日的供应链在华为、众多中企被拉进黑名单以及种种的限制之下,我们就已经明了这个供应链存在不稳定的趋势,也就是俗话说的被卡脖子。因此,在过去这个行业早就开始了底层的打破,随着时间的发展相关的产业链也开始逐步走向成熟,如南大光电、容大感光、晶锐电材等等企业都有相关部署。从那个时候我们就可以看出,光刻胶基于国产替代已经处于了一个加速推进的阶段,但我们仍然缺少一个契机。
就目前来说,光刻胶的市场基本上都被日企和美企垄断,其中日本的厂商在技术上和产能上都更具备市场垄断的优势。可见,要想挤进市场有两大要素,第一个是产能第二个技术。然而我们在技术上其实和国际先进水平存在差距,自给率也相对较低,这是因为市场客户验证阶段还存在很大的短板。
说通俗点就是,在技术和产能都跟不上的时候,为了供应链稳定很多企业并不会选择本土的光刻胶供应商。这一点几乎在半导体行业中任何一个细分领域都相当适用。可关键是,现在外企正在断供我们国内的光刻胶供应,恰好南大光电又摆出了产能和技术实力,相当于外界合力之下,给出了一个国产替代的契机。
当然,我们国内的光刻胶厂商有技术实力的并非只有南大光电,就比如说EUV的光刻胶上面北京科华就通过了02专项验收;KrF光刻胶方面,多个企业也都具备了量产的实力。如此契机一来,国产替代化的局面很容易实现。诚如美专家所言,美限制是不对的,这样只会让我们的国产化替代速度加快。
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