日本和韩国再次收紧对中国的技术封锁，日韩境内有中国背景的技术人员被逮捕！

近日，一位国立研究开发法人产业技术综合研究所（AIST）的中国籍高级主任研究员权恒道，被东京警视厅逮捕，罪名是“涉嫌向中国公司泄露研究数据”！日本的这个产业技术综合研究所，是日本国内研究尖端技术的最大规模研究机构。权恒道是该研究所领域研究小组中的中心人物。

东京警视厅对外界表示，“权恒道于2018年4月13日下午4点半左右，将氟化合物合成的相关研究数据，通过电邮发给了一家境外企业，违反了相关法律！”据日媒报道，这家所谓的境外企业，是一家中国企业！

6月12日，韩国检方对外发表声明，一名三星电子的前高管遭到起诉，罪名是涉嫌窃取该公司的技术，输送到境外！该名高管被指控，多次以不当手法获取三星半导体工厂的工程数据、工艺流程图、设计图等信息，其中大部分都是用于制造30纳米以下动态随机存取存储器和闪存芯片的制程工艺！很显然，这个世界上只有我们中国大陆的半导体企业还需要这些相对落后的技术和制造工艺！

这两个所谓的“技术泄密”案件，都是在布林肯访华前突然爆出来的！之前日本和韩国都是进行秘密逮捕，这两天进行大肆宣扬炒作，不外乎是想给中国施加压力，从外围给布林肯跟中方的谈判助力！同时也是再次严重警告那些偷偷跟中国大陆进行技术合作的日韩高科技企业！

不过，日本和韩国这两下子可吓不到我们中国！半导体芯片领域，我们正在全力技术攻关，主要的核心构件组件已经取得了突破！目前就是在材料和设备方面，美日韩还能卡卡我们的脖子，不过应该很快也会有突破了。