EUV光刻机不可超越，阿斯麦：中国人会变得非常创新

导读：移民国外的公知们近日又在科普EUV光刻机是不可超越的工业上的皇冠明珠，然而制造EUV光刻机的阿斯麦公司却说中国人会变得非常创新。

近日华为发布了新5G旗舰芯片的MATE60系列手机引发全世界关注，而那些移民到国外的一系列公知们仍然不知悔改，他们抛出新的论点说EUV光刻机是不可超越的，意思就是中国人是制造不出EUV光刻机的。

这类言论代表者就是那个假科普公知方舟子，方舟子大谈阔论说：全世界能制造EUV光刻机所需要的光源的企业只有一家美国企业，而这家企业已经被荷兰的阿斯麦公司给收购了。没有美国企业的光源中国人是无法制造出EUV光刻机的。

以前当中国人还没有DUV光刻机，方舟子们就大肆宣扬所谓光刻机需要10万个零部件，5000家厂商，24个国家合力研发才能制造出光刻机。然而现实却狠狠地打脸他们。在华为被美国制裁的1566天的时间，中国企业不光制造出了DUV光刻机，甚至还帮助造出了先进的麒麟9000系列5G高性能芯片。

既然DUV已经制造出来了，那么EUV能被中国人制造出来吗？其实阿斯麦CEO温彼得最近的采访已经暗示了我们的答案，温彼得说：如果我们不分享技术，他们就会自己去研究。中国有14亿人，其中很多人都很聪明。他们会提出我们还没想到的解决方案。你在迫使他们变得非常创新。

看到这里其实答案已经很明显，中国人早晚会通过自己的创新来制造出来EUV光刻机。而我们通过吉林最近获奖的科学项目就知道其实EUV光刻机已经不远了，在那里制造EUV光刻机的很多难点已经被解决出来了。要知道这仅仅是长春光机所研发的项目，而中国参加研发EUV光刻机的研究院不止长春光机所这一家，众多科学研究院早已加入研究光刻机的项目当中。

当然还有更让人高兴的事情，那就是中国不光在研究EUV光刻机，甚至下一代的光刻机或者说是新式光刻机的研发也早已经进入突破阶段，项立刚说：我相信今天中国的光刻机研究，不是什么EUV了，应该是做X-ray光刻机，波长小于10nm，甚至是0.01nm，这样有更加精细的刻写，在这个领域，我们的科学家已经有很多研究，也有很多积累，下一代光刻机肯定是从这个领域突破。我也相信下一代X-ray光刻机一定是中国做出来。

不管是EUV光刻机，还是未来的X-ray光刻机，中国人一定可以凭借自己的创新和研发制造出来了，所谓的工业明珠不过是海市蜃楼，中国芯片制造弯道超车的日子不远了。