中国光刻机现状：进口为主，自主创新待突破

中国现有几台光刻机？这是一个涉及到技术和产业秘密的问题。然而，根据公开信息和行业专家的分析，中国目前拥有的光刻机数量并不少，但大部分仍然依赖进口。

光刻机是半导体产业的核心设备，用于在硅晶圆上制造集成电路。光刻机的精度和制程能力直接影响到芯片的性能和应用范围。近年来，中国政府和企业纷纷加大对半导体产业的投入，光刻机作为关键设备之一，自然受到了广泛关注。

从公开报道来看，中国已拥有多家光刻机生产企业，如上海微电子、北京华卓精科等。这些企业生产的光刻机虽然在精度和制程能力上与国际先进水平有一定差距，但已经在一定程度上满足了国内市场需求。同时，中国还与荷兰的ASML公司、日本的尼康和佳能等国际知名光刻机企业保持着密切合作关系，进口了大量先进的光刻机设备。

然而，光刻机技术的高度垄断性和产业链的封闭性，使得中国在光刻机领域的自主创新道路充满挑战。目前，全球光刻机市场主要被荷兰的ASML公司垄断，该公司生产的EUV(极紫外)光刻机被认为是目前最先进的光刻设备。而中国在这一领域仍然处于追赶状态，距离实现EUV光刻机的国产化还有很长的路要走。

尽管面临诸多困难，但中国在光刻机领域的进步已经引起了全球的关注。例如，上海微电子公司已经成功研发出28纳米光刻机，这在一定程度上弥补了国内市场的空缺。此外，中国政府也在积极推动半导体产业的发展，加大对关键技术的研发投入，力争在未来实现光刻机技术的自主创新。

总之，中国目前拥有的光刻机数量并不少，但在关键技术和产业链方面仍需加强自主创新能力。在政府和企业的共同努力下，相信中国在光刻机领域的发展将取得更多突破，为全球半导体产业的发展贡献力量。