上海立功了，这下真遥遥领先了，中国5nm芯片或将无需光刻机

刚刚，从手机中国新闻获悉，中国上海一家科技企业申请的“5纳米芯片制造的直接蚀刻方法”专利公布，也就是说该专利不需要EUV光刻机或DUV光刻机的光刻，就能直接蚀刻制造出5纳米芯片。

据悉，这家中国科技公司来自上海

有人认为，这家上海公司的方案，感觉有点像天方夜谭，别人坐宇宙飞船上天，突然有人发明坐着扫把也能上天？

其实不是天方夜谭，这个技术十年前就有了，当时只能支持128纳米以上，而且当时技术水平有限，良品率也低，所以没被发展

现在能发展，说明其实应用技术有时也是被逼出来的

而且这是蚀刻，芯片制造里面的一道工艺，不是光刻，蚀刻工艺中国本来就不比荷兰的阿斯麦差的。

目前很值得关注的其实还有清华的一个方案

这个方案的大致意思是，你光刻机要50度的水，我精准烧不出来，那我就放一条很长的管道，100度的水流过管道逐渐冷却，你要50度的水自己量，在相应的位置接就行。

非常天才

比亚迪老总也用过这种笨办法，打败三洋松下电池

当然这种方案成本更高

但是说成本高的，可以了解一下，2021年进口的芯片金额是4300亿美金，和这个数字比起来，能源不是问题，并且工业工艺可以不断优化，量大管饱也能进一步压缩单件商品的成本。

必须要说的是，生产商制裁客户，现实中本就是个笑话，美国还是一意孤行，科技是无限的，但是人的研究能力是有限的，不可能永远领先，科技历来就是你追我赶的前进的。

希望美国还是回到公平竞争的正规道路上来吧！

最后，池塘里的鱼不知道池塘的形状，也不知道池塘的大小。

鱼跳出池塘看一眼，可能就豁然开朗，对池塘胸有成竹。

很多问题，换一个角度，换一个思维去看，复杂的东西往往变得简单。

中国，加油！