在制造半导体芯片的过程中,光刻工艺是最为关键的一步。这个过程需要使用到一种非常复杂且昂贵的设备——光刻机。
在进行光刻工艺时,需要进行多个版本的改写,以得到最终的芯片图案。此外,还需要使用到其他种类的设备,例如氧化炉、涂胶显影机等。这些设备的种类繁多,而且价格昂贵。因此,在制造半导体芯片的过程中需要使用到大量的设备和工艺,其中光刻工艺是最为关键的一步。
目前全球光刻机市场基本都由荷兰ASML、日本尼康和佳能公司完全垄断,而国内的上海微电子产的光刻机,市场占有率基本可以忽略,特别是在芯片制造光刻机这一块,更多用于封测、光刻胶生产等领域。
根据报道,同兴达已成功引进一台由上海微电子公司向我国企业销售的两台光刻机中的一台。此外,大族激光公司已成功突破光刻机的研发,并已实现小规模生产且能投入市场。这些信息反映了我国在光刻机自主研发上的坚定决心,并正在逐步摆脱对进口设备的依赖,以实现国产化。与ASML或其他公司的进口光刻机相比,我国的明显更具优势。所以说,国产100%自主光刻机只能用四个字来形容,未来可期!
也整理出5家光刻机概念企业
第一家、国林科技
公司掌握了臭氧系统设备的全套核心技术,是国家高新技术企业,2023年以来陆续在半导体、面板、科研等行业领域出货验证。
第二家、锐新科技
公司电力电子散热器产品具备较强的国际竞争力,应用在光伏和风电设备,公司的电子散热系统为间接供货应用于光刻机。
第三家、华亚智能
公司是ASML的间接供应商,向直接客户少量供应应用于光刻机设备的精密金属结构件产品。
第四家、电科数字
在先进制造领域,子公司柏飞电子为轨道交通龙头企业提供信号控制产品,为半导体装备生产商提供光刻机的控制器。
相当有潜力的一家企业
1、光刻机+国企改革+新能源汽车,以封装光刻机得冷却系统配套为起点与微电子装备集团进行项目合作;
2、市值不到80亿,股价不到7元,低价+低估值,股价小而美,累计派现14.96亿元,主力高控盘;
3、从技术面来看,MACD日线+周线+月线三线金叉,底部放量启动,突破前高,有望从7元到98元。
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