日本佳能：纳米压印光刻设备对中国禁运！

佳能表示，将以低于阿斯麦芯片制造技术的价格提供纳米压印光刻技术(NIL)，这可能使较小的制造商能够制造领先的半导体芯片，但由于美国的压力，纳米压印光刻设备可能会面临贸易制裁无法出口到中国。

纳米压印光刻技术被用作紫外(EUV)和深紫外(DUV)光刻技术的替代品，后者用于最先进的半导体器件制造。

目前，总部位于荷兰的ASML是EUV和DUV技术的唯一供应商，EUV和DUV光刻机是世界上最先进的芯片制造设备，用于批量生产7nm以下的芯片。然而，随着EUV机器的成本达到数亿美元，EUV技术对芯片市场上许多较小的参与者来说是不可接近的。

与此同时，与其他芯片制造商一样，由于美国的制裁，ASML被禁止向中国客户出口其EUV技术。

上个月，总部位于日本的佳能宣布将推出一款纳米压印光刻(NIL)机器，该机器声称能够生产5nm节点的零件，一旦技术进一步完善，最终或许可以生产5纳米以下节点的芯片。

传统的光刻设备通过将电路图案投射到涂有抗蚀剂的晶圆上，而佳能的新技术则不同，纳米压印将电路图案印在晶圆上的抗蚀剂上，就像邮票一样。

佳能表示，在传统制造过程中需要使用光学机制的地方，通过消除这一步骤的需要，将能够降低机器的总体成本。

据《日本时报》报道，该公司首席执行官Fujio Mitarai表示：“纳米压印设备价格将比ASML的EUV低一个数量级。”佳能没有提供这款机器上市的时间表。

日本政府一直受到美国要求其对中国实施贸易限制的压力，但日本政府出台的出口限制措施并未明确提及纳米压印技术。但佳能CEO也表示，尽管存在与日本出口制裁有关的潜在灰色地带，但他的理解是，14纳米技术以外的任何产品的出口都是被禁止的，因此该公司将无法向中国出售这项新技术。

在疫情和中美科技贸易战导致供应链中断之后，世界各国都加大了芯片国产化的力度。2023年4月，日本政府承诺提供5.32亿美元(700亿日元)用于在日本开发和制造下一代芯片的项目，其中包括与Rapidus达成的到2025年在日本生产2nm芯片的协议。

今年5月，美光宣布计划投资5000亿日元(合36亿美元)，将极紫外光刻技术(EUV)引入日本，成为首家将这种先进设备引入日本的公司。