在去年十月的科技盛会中,佳能凭借其全新的纳米压印技术(NIL)光刻设备FPA-1200NZ2C,为小型半导体制造商描绘了一条通往先进芯片制造的新路径。近日,佳能负责新型光刻机开发的高管武石洋明在媒体采访中透露,这款备受瞩目的设备预计将在2024年至2025年间正式投入市场。
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传统的光刻技术,如同一位细心的画家,利用光学图像投影的原理,将集成电路的微观结构逐一描绘在硅晶圆上。而佳能所开发的纳米压印技术,则更像是一位高效的印刷师,它摒弃了复杂的图像投影过程,而是直接利用模板进行大规模的复制,如同在一张巨大的纸上压印出精致的图案。
佳能对于纳米压印技术的研发已经走过了超过15年的历程,他们一直在探索如何通过这一新技术,为半导体制造带来更低的成本和更高的能源效率。如今,随着FPA-1200NZ2C的即将问世,这一愿景正逐步变为现实。
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