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三星计划推出2nm和4nm尖端AI芯片技术

三星电子近日宣布,将推出两款先进的工艺节点:SF2Z(2nm)和SF4U(4nm)。这一技术突破预示着半导体设计领域的巨大进步。2nm工艺节点通过引入背面电源输送网络(BSPDN),在提升功率、性能和面积(PPA)的同时,也减少了电压下降。而4nm工艺节点则通过光学缩放技术实现PPA的改进,使得现有的芯片设计能够在无需重大架构变更的情况下进行缩放。

预计这些先进的工艺节点将在2025年(4nm)和2027年(2nm)进入大规模生产阶段,主要针对高性能计算(HPC)和人工智能(AI)芯片市场。业界普遍认为,随着技术的成熟,这些工艺节点有望应用于智能手机芯片,进一步推动三星与苹果之间的技术竞争,为消费者带来更加高效和节能的智能设备。

参考链接:

https://www.phonearena.com/news/samsung-2nm-4nm_id159379

  • 发表于:
  • 原文链接https://page.om.qq.com/page/OKMesnJavGgHs1Iu_lutsLqA0
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