近日,尼康再次引发了行业的关注。他们宣布推出了采用增强型浸润式系统的光刻机,具有更高的精度和生产速度。据称,这款新的浸润式光刻机相比上一代产品效率提高了10-15%,成为尼康有史以来效率最高的光刻机。同时,由于其精度的大幅提升,这款光刻机还能够支持到5nm芯片的制造,这意味着在不使用EUV光刻机的情况下,也能够实现7nm以下工艺的芯片生产。
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然而,尽管尼康的浸润式光刻机在技术上取得了显著进步,但由于日本政府的禁令限制,其40nm以下的光刻机无法出售给中国大陆。这使得尼康的这款先进光刻机无法直接解决我们在光刻机技术上的困扰。因此,我们仍需要依靠自主研发来突破光刻机技术的瓶颈,实现国产光刻机的崛起。
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