国产氟化氩光刻机公开，回击荷兰新禁令，相当于ASML20年前水平

这几年啊，美国老是想着搞出个跟中国竞争的格局来，而且呢，它打压和限制中国的各个产业，就没停过。

尤其是在半导体这块儿，美国的表现那可太明显了。

美国为了这个事儿啊，甚至弄出了个所谓的“芯片与科学法案”，用来限制对中国芯片还有相关技术的出口呢。

更重要的是，美国还在凭借自身的国际影响力，去拉拢其他生产半导体产品的国家呢。

像荷兰、日本这些国家，在美国的指使下，一起对中国搞起了出口管制政策。

之前有段时间，荷兰在光刻机这块又搞出了个新禁令。

可是没过多长时间，咱国家就狠狠地回击了荷兰，国产的氟化氩光刻机亮相了，这光刻机的水平和AMSL20年前的水平差不多呢。

瞅这情况，在这个领域，咱国家也得开始赶超那些欧美国家喽。

【一、荷兰的禁令】

荷兰的ASML在光刻机领域那可绝对是个巨头，他们造的EUV光刻机还有其他高端光刻机产品，在全球市场上都特别有名。

甚至在供应链里，都快形成垄断地位了。

早在2007年，这家企业在中高端光刻机领域的市场份额就已经超过了60%。

这家企业在最高端市场可不得了，80%的市场份额都被它拿下了，这实力真让人惊掉下巴。

更重要的是，光刻机可是制造高端芯片必须要用的生产设备，全世界各个国家都特别重视呢。

近20年了，没有哪家企业能撼动荷兰AMSL的独立垄断地位。

在整个国际供应链里，这家企业的地位依旧不可动摇。

得注意啊，荷兰在去年的发展进程里，就已经提出了那所谓的半导体出口管制措施了。

他们着手限制对中国相关产品和技术的出口，把好多产品和技术都归到管制范围里去了。

当然，荷兰这么干的原因也很明显，多半是美国给的压力。

就因为这个，美国可没少针对咱们国家提出经贸方面的制裁政策。

并且呢，美国一直在拉拢别的国家，逼它们采取和美国差不多的经贸政策。

在美国的施压下，荷兰那边也不许相关企业把最先进的EUV光刻机设备卖给中国企业和客户了。

其他的DUV设备也被列进出口禁令的名单里了。

今年以来呢，不管是美国也好，荷兰也罢，对咱们国家的半导体产品禁令还是一直没停呢。

今年9月6日的时候，荷兰那边宣布要进一步扩大对先进半导体制造设备的出口管制呢。

荷兰这么做确实不太明智。

现在经济都全球化了，荷兰得从维护国际贸易规则、顾全经贸合作大局的角度考虑，尊重市场原则和契约精神。

可不能因为美国施压就去搞那些措施，来妨碍中国和荷兰在半导体行业的正常合作发展，搞那种滥用出口管制措施的事儿。

这对中荷企业双方的共同利益可没一点好处。

中国的市场规模可大得很呢。荷兰要是一直和中国企业好好合作，那荷兰肯定能在外贸上赚不少钱。

可要是把和中国的经贸交流渠道给切断了，最后吃亏的可不只是中国企业，荷兰自己也跑不了啊。

再说了，技术方面的壁垒和瓶颈也不会永远存在呀，中国企业早就证实了这一点。

回头看看以前的发展状况就能知道，其实中国企业长久以来都被西方欧美国家在技术方面限制和打压着呢。

不过呢，中国的企业可不会轻易认输，还是会靠着努力奋斗、自立自强的那股子劲儿闯出一条全新的路来。

好多产业领域都全面超过了那些西方发达国家，光刻机领域当然也一样。

荷兰那边刚宣布要扩大光刻机管制范围呢，咱们国家马上就还回去了，宣称在对应的产业技术领域已经有突破了。

【二、国产氟化氩光刻机公开】

不管是从科技方面看，还是从经济方面看，半导体行业都特别重要。任何电子设备都和半导体产业关系极为紧密，各种电子设备的制造和运行都靠它撑着呢。

芯片就像是所有电子产品的核心单元呢。

咱国家当然也特别重视半导体产业相关技术，毕竟这可是推动电子信息产业创新、发展的重要途径呢。

这对能源和环保等高新技术产业方面来说，同样也是很重要的支持呢。

咱国家在这个领域起步是比较晚的，相关技术也挺落后的，对外向型的依赖还挺大的，不过咱国家一直都没放弃深入研究和探索相关技术。

要知道，同样是9月的时候，我国工信部就已经正式推出《首台重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》了，国产光刻机就在这个目录里呢。

指导目录里列出了两种国产光刻机，一个是氟化氪光刻机，另一个是氟化氩光刻机。

得说啊，这两款光刻机一出现，那可是有着划时代的意义呢。

这两种设备要是量产了呀，咱国家就能尽量减少相关的外向型依赖了。

荷兰那边的光刻机出口管制肯定再也管不到咱们中国一点儿了。那这两种国产光刻机实力咋样呢？

【三、相当于ASML20年前水平】

咱国家最近官宣的两款光刻机那可老厉害了，先唠唠氟化氪光刻机吧。

这种光刻机用的是248纳米的光源，分辨率最多110纳米，套刻精度最多25纳米。

氟化氩光刻机的参数要更高一点呢，不过这台光刻机还是干式的深紫外（DUV）光刻机，并不是更先进的浸没式深紫外（DUV）光刻机。

那这个光刻机到底能做到多少纳米的制程呢？

具体看相关参数的话，氟化氩光刻机的分辨率是小于等于65纳米，套刻精度小于等于8纳米。

单次曝光能达到的工艺制成节点，大概也就是65纳米上下。

这就表明，目前这款光刻机离能生产28纳米芯片还差得远呢，更别说是8纳米或者7纳米的芯片了。

瞅着这台光刻机啊，跟荷兰ASML最先进的EUV光刻机产品比起来，差距可不小呢。

要是真跟荷兰的企业比的话，这款光刻机的性能和荷兰ASML设备技术相比，实际差了大概18年呢，也就相当于那家企业20年前的水平。

这么看的话，国产光刻机和荷兰光刻机在技术实力上的差距可大了去了，还没法跟世界最顶尖的技术水平比呢。

不过呢，从大的方面来讲，这两款光刻机一出现，确实能让咱们国家尽量减少对半导体产品的外向依赖。

另外，咱国家后续相关技术搞研发的时候，这两款光刻机能带来点经验，给点启发呢。

光刻机设备研发难度大，研发周期长，想赶上全球顶尖技术水平可不容易。

不过呢，现在有两款咱们国产的光刻机突然出现了，这就表明咱们国家已经走上“快车道”啦。

往后啊，靠着咱们国家科研人员还有相关企业不停地努力，咱们国家肯定也能在这个产业方面更快地取得突破，到时候全面超过那些西方发达国家就不是说说而已了。

【结语】

美国和荷兰为了限制咱们国家相关产业发展，各自出台了出口管制政策，给光刻机设备和半导体领域好多产品设置了壁垒。

在它的限制下，咱国家的好多产业当然也会受到相应的不好影响。

不过呢，这种影响不会一直存在的，现在咱们国家在相关的领域已经在技术上取得突破了。

两款新的国产光刻机突然出现，这就表明现在咱们国家的相关技术水平在一定程度上已经冲破了西方欧美国家搞的技术壁垒。

虽说跟现在国际顶尖水平比起来，整体实力还有差距，不过这只是暂时的。

咱国家新一代光刻机研发成功啦，这就意味着咱国家光刻机的研发技术发展得可快了，以后要超过那些西方国家呀，也就是个时间长短的事儿喽。

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