据韩媒报道,三星芯片部门的最高领导上周亲赴美国,拜访了英伟达总部。
三星副董事长、DS部门负责人全永鉉此行携带了公司最新的1b DRAM样品。
这种DRAM用于HBM,此行目的是向英伟达展示最新成果。
消息人士透露,这个新样品是应英伟达去年提出的改进要求而开发的。
DS部门负责人亲自向客户展示样品的情况实属罕见。
去年,三星原计划使用1b DRAM生产 HBM,但遇到了良率和过热问题。
对此,三星曾打算改用1a DRAM(1b DRAM的前代)来生产HBM3E 8H和12H。
并计划跳过1b DRAM,直接使用1c DRAM生产HBM4。
然而,应英伟达的要求,三星又重新考虑使用1b DRAM。
全永鉉此次访问很可能是为了确保三星能获得英伟达的HBM3E订单。
作为DS部门和其下属存储器业务的负责人,全永鉉被认为是DRAM领域的专家,预计主导了此次1b DRAM的设计改进。
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