中国要造出5nm的光刻机 究竟需要多长时间？

要制造一部光刻机，最核心的部件就是镜头和激光光源，而现在中国在这两项技术上还非常的落后。现在全球能够生产5nm及以上光刻机的厂家只有一个，就是荷兰的ASML，而其中最根本的原因就是光源。现在，ASML是全球唯一一家掌握了极紫外光源技术的公司，要想突破7nm的这个技术瓶颈，就必须使用极紫外光源。最近，中芯国际就向ASML成功订购了一台光刻机，可以生产出7nm的芯片，但是，这台光刻机都不是EUV光源的，使用的是浸润ArF技术，也就是说7nm已经是这台光刻机的极限了。

为什么中芯国际不去买EUV的光刻机呢？因为，最早极紫外光源的研究是多个国家参与的，包括了欧洲多国还有日本、韩国。而其中出力最多的就是美国。可以说，EUV光刻机的专利中，美国拥有的数量不在少数。这也是为什么中国没能得到EUV光刻机的根本原因。

而现在，中科院光电所算是国内对光源研究最领先的科研所了，但是，中科院光电所的技术还是在365nm的水平，也就是i-line阶段，实验室能够做出的芯片最高水平也只是在22nm。还有很多技术瓶颈需要突破，这些都没有什么捷径可走。

当然，除了光源，下一个门槛就是镜头了在镜头上，现在ASML的EUV光刻机使用的是德国蔡司的镜头，其次能够排的上号的就是佳能和尼康了。而中国的镜头在高端市场上基本是没有影子，中国想要在这个领域有所突破，那也不是一时半会儿就能够见到成效的。当然，鉴于中国的德国现在定没有什么矛盾，所以镜头技术的使用应该不会是个大问题，所以，我们勉强认为镜头上就不需要花精力去研究了吧。

20年前，EUV光刻机的地位就已经很明确了，谁有了EUV光刻机的技术，谁就有了芯片领域的未来。美国作为最早的研发者，自然是加大投入跟进。而欧洲由于自己在半导体领域的逐渐衰弱，也是把EUV光刻机作为了自己崛起的赌注。韩国和日本当然也不甘落后，疯狂的跟进。

美国由于对EUV技术的研发时间最长，有一定底蕴，总共投入了50多个高校和科技企业进入到这个领域，当然，最终在EUV光刻机领域，美国的收益也是最大的。而欧洲对于EUV是最看重的，35个国家共110多个高校和企业加入到研究的行列中。日本算是其中研究最不上心的，也是EUV研究的国家中最终受益较小的，连韩国都不如。

几十个国家，上百所研究单位，花费了20多年的时间，才有了今天的EUV光刻机，也有了5nm制程的芯片。说中国花费10年的时间做出5nm的光刻机，应该不为过。ASML就曾经说过，即使他们公开EUV光刻机的图纸，现在也没有哪家公司能够山寨，因为EUV的技术研发的难度非常之大，不是说谁都能够山寨的。