中科院立功！5nm激光光刻研究获进展，网友：弥补短板

国产芯片制造发展决定着我们在半导体产业上所能够达到的高度，而半导体制造产业的短板则限制了国产芯片的发展，其中，光刻机问题尤为严峻。

最近，中国科学院苏州纳米仿生研究所张子旸研究员，与国家纳米科学中心刘前研究员合作，在《纳米快报》杂志(Nano Letters)上发表了一篇名为《超分辨率激光技术制备5 nm间隙电极及阵列》的研究论文，这篇论文描述了该小组开发的新型5 nm超精密激光加工方法。

而就像中科院苏州纳米所的5纳米光刻技术一样，从7月7日被爆出消息，不到小半天，已经在互联网上成为了焦点：一种新型5nm超高精度激光光刻加工方法！

而现在，全球道光刻机的前三代产品全部被 ASML、尼康、佳能垄断，CR3 (前三代产品市场占有率)高达99%。目前形势下，实现光刻机的国产化替代，具有重大的战略意义。