荷兰ASML：公开图纸也造不出来？中科院：全力攻克光刻机！

点击关注，每天精彩不断！

导读：荷兰ASML：公开图纸也造不出来？中科院：全力攻克光刻机！

众所周知，如今我国的华为正在遭遇着前所未有的危机，在这一场“科技”的博弈中，华为公司的遭遇也让无数的国产科技企业都意识到了掌握自主研发核心技术的必要性，只有我们研发和生产出了属于我们自己的国产芯片，企业的发展才不会受制于人，虽然说半导体芯片只有指甲盖大小，但是它在整个科技领域中所发挥的作用已经变得越来越重要起来，所以现在研发国产芯片也已经刻不容缓了！

一直以来，芯片都被誉为“现代工业的明珠”，而芯片的制作过程也涵盖了人类目前最顶尖的科技，堪称高精尖领域的代表；正是因为如此，所以芯片的生产制造工艺几乎也是非常复杂和充满难度的；想要生产芯片，必不可少的就是光刻机，而国产最先进的光刻机也仅仅只有28nm工艺水平，这与荷兰ASML公司所研发的5nm的EUV光刻机相比，还有很大的差距！

目前，全球最先进的光刻机都是来自于荷兰ASML公司所生产，这一公司几乎掌握着全球最顶级光刻机的所有话语权；正因为如此，让荷兰ASML公司说话的时候也非常的硬气，曾经ASML公司在接受采访的时候表示：就算是公开光刻机的图纸，中国也造不出来先进的EUV光刻机！其实ASML公司说这一句话也是不无道理的，因为一台光刻机需要用到10万多个零部件，重量也高达180吨，再加上制造过程非常的复杂，所以想要研发出一台先进的光刻机也并不是那么容易的！

据悉，ASML公司所研发的光刻机核心零部件一共由17家企业提供，而美国就占了9家，日本占了3家，还有几家则来自于瑞典以及法国等，可以说没有这些零部件的供应，想要制造出先进的EUV光刻机也是难于上青天的；不过我们国内的科技企业并不会因为有困难就放弃对光刻机的研发，根据据媒体报道显示，我国中科院院长白春礼透露，中科院将集中精力来全力解决光刻机等设备的研发问题！

尽管说研发先进的光刻机充满了困难，但是我们却有无数不怕困难的科学家，只要大家团结一致，齐心协力的对光刻机技术难题进行攻克，我们也一定能取得光刻机领域的研发突破，毕竟想要解决国产芯片的难题，就必须要熬先解决光刻机的难题才行，所以研发光刻机也是国产科技企业必须要突破的难关！

现在我国的第一大民营科技企业华为公司正在遭遇着芯片供应的危机，华为的芯片现在是用一块就少一块，所以解决光刻机和生产国产芯片的难题已经迫在眉睫了，而在国家的大力扶持之下，相信国产半导体企业的发展也会越来越好，让我们一起为国产加油吧！