美国能否以一己之力独立制造出当今最先进的5纳米极紫光刻机？

目前能生产极紫外光刻机的厂家唯有荷兰阿斯麦，很多人认为这是阿斯麦的核心技术，实际上这技术来自美国。光刻机的光源采用的是193纳米的氟化氩激光。随着摩尔定律的推演，氟化氩激光的潜能即将耗尽。按照摩尔定律，芯片性能肯定不会因氟化氩激光的潜能被榨干而停滞不前，半导体行业必须要寻找新光源替代。

极紫外EUV光刻机中的镜头模组，它就制造不出来，阿斯麦公司的极紫外EUV光刻机也只能依靠德国蔡司公司生产的镜头模组了。虽说镜头模组是仅次于光源，机台的第三重要部件，但是少了它，极紫外EUV光刻机依然满足不了需求。虽说米国的ultratech公司也可以制造光刻机的镜头，但是镜头性能达不到要求，最后也不再发力制造光刻机所需要的镜头了。所以说，镜头模组就是制约米国独立研制极紫外EUV光刻机的第一个障碍。

美国虽然无法独立造出光刻机，但是却牢牢掌握着世界半导体产业的核心命脉，其他国家想要短时间内弯道超车几乎是不现实的，除非未来硅基芯片被彻底取代。ASML公司出售光刻机本身就是自己股东公司优先供货，因此美国公司不缺光刻机供应。所以美国也没必要单独做自己光刻机，它们公司发展策略大多是半导体研发投入，也就是掌握一些核心技术。