真被张召忠说中了，国产芯另辟蹊径，突破西方封锁只是时间问题

据新京报报道，张召忠曾在采访中指出，如果美国继续限制对华的芯片供应，那么可以预见的是，不久的将来，美国制造的芯片会逐步被中国芯替代。本以为距离这个目标还有一段时间，可没想到真被张召忠说中了，中芯国际的国产芯另辟蹊径，走出了一条不同于传统光刻机制作芯片的道路，根据现有技术不断“压榨”工艺，靠着只有14纳米制程的光刻机制造出了性能比7纳米的N+2芯片，而性能接近10纳米的N+1芯片也开始推进小规模试量产，可以预见的是，中国芯突破西方封锁只是时间问题。

据了解，中芯国际期间已经进入量产的14纳米芯片，目前已经达到了世界范围内的标准水平，虽然距离目前全球顶尖的5纳米甚至是3纳米技术还相当遥远，但从 N+1和N+2芯片的研发进度来看，在14纳米基础上的工艺升级已经能够逼近目前国际主流的7纳米，而N+2提升的性能达到了20%，同标准7纳米工艺还有一些差距，这说明中芯国际的芯片并没有依靠光刻机的升级，而是采用了其他的办法。

显然，对中芯国际来说已经是完成了技术上的飞跃，拥有了足够的技术积累以发展当前最为先进的技术。不清楚的是，在芯片制造方面，实际上并没有太多的理论问题，更多只是需要经验的积累，美国之所以能够掌握高超的芯片技术，实际上就是因为在发展初期，利用遍布全世界的财富和工程师不断推动研发进度才得到的。现在的美国早已没有了曾经美国的研发能力，而中芯国际的“中国芯”正在不断提升自己的实力，突破目前芯片封锁只是时间问题。

在芯片制造的领域，全世界多年来其实都在沿着同样的道路前进，因为美国掌握着相关的技术。但现在中国成功利用新的工艺制作了新的芯片，加工工艺另辟蹊径，这意味着如果中国未来的技术达到了可以生产更高制程芯片的程度，即便制程相同，性能也很有可能会在原有基础上得到大幅度的提升，现在看这或许只是一个简单的权宜之计，但不久之后很有可能会为“中国智造”再次添砖加瓦。

不过必须清楚的是，目前低制程芯片没有办法绕过光刻机，当制程达到了5纳米甚至更低的时候就必须要使用更高精度的光刻机，这算是目前中国芯发展最困难的一个坎。不过从另外一个方面说，这其实也并不是什么太大的问题，除了中芯国际的N+1、N+2芯片，其实中国还在研究更多的能够弯道超车的技术。比如利用多层叠加的方式来提高芯片的厚度，从而解决精度不足的问题，此外还有激光等多种方式的研究并行，短期内满足需求的可能性大大提升，曙光近在眼前。

从全球范围来说，美国霸权的衰落导致其科研能力不断的下滑，以霸权为基础的美国制造的芯片产业也因此不断衰退，同时由于很多理论都认为，3纳米已经到了目前这一理论的极限，因此在这之后人类的芯片制造就陷入了一个新的瓶颈。如果中国能够在那之前掌握相关的技术，那就意味着在这一领域中国又再次与世界各国尤其是美国霸权站在了同一条起跑线上。

在世界经济格局大变的前提下，中国以强有力的经济潜力和恢复能力顺利走向了带领各国的方向，大量人才和资金不断流入中国，无论是从长远还是从短期来看，中国未来必然会成为世界经济和科技发展的重心，封锁只会让自己止步于此，只有开放和合作才会获得成功，这点想必张召忠很久以前就预见到了。