1956年我国便自研光刻机，为何会闲置成了废铁？停滞180nm水平

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我国光刻机水平

提到光刻机，很多人第一时间想到的都是荷兰ASML公司，这家公司掌握了全世界最先进的EUV光刻机，也只有ASML能够生产高端光刻机，别的企业都不行。所以说，想要参与高端光刻机市场的竞争，也没有这个实力。

受到这几年芯片市场变局的影响，国际半导体市场都开始更加关注芯片、光刻机、集成电路等领域的部署。

包括我国也一样，自从中科院宣布布局光刻机以后，引起一片哗然。在联系到数月以前，中科院某研究员发布了一篇突破5nm光刻技术的文章，更是被不少人误解为中国具备5nm高端光刻机的制造水平了。

其实并不是，该技术的突破是用在制作光掩模，想要打破ASML对高端光刻机技术的垄断，还有一段路要走。

光刻机制程工艺可以划分为180nm、90nm、65nm、45nm、22nm、14nm、7nm等技术水平，而我国还停滞在180nm水平。

这一消息可能让不少人诧异，中科院不是突破5nm技术，上海微电子不是量产90nm，不是即将交付一台28nm浸没式光刻机吗？

可实际上，上海微电子90nm是别人20年前的技术，28nm浸没式光刻机也迟迟没有交付和更进一步的发展。我国光刻机水平距离国际主流工艺，差距还是有的。

为何会闲置成废铁？

更有消息爆料，上海微电子在2015年的时候，给国内一家芯片制造工厂提供了一台光刻机，可是后来却闲置成废铁，后续也没有传来关于这台光刻机更多的消息，如果消息属实，那么这台光刻机可能会一直被搁置。

再怎么说这也是一台光刻机，和普通的机器不同，光刻机价值不菲，制造难度，生产出一台光刻机已经非常不容易了，为何会闲置成废铁？主要原因有两个。

第一个是光刻机工艺水平。精度越高的光刻机，制造芯片的条件就越稳定。以国内自主芯片制程，和光刻机工艺水平要匹配才行。比如芯片制程达到了14nm，但如果是用90nm的光刻机来生产14nm芯片，肯定是不行的。

第二个原因是缺乏市场供应链生态。在这一点上，包括人才培养，企业技术和市场行业效益等等，都是关键。这些组成完善的供应链生态，有助于光刻机产业的增长，但问题在于缺乏这些关键因素。

就好比没有市场效益，那么国产光刻机生产出来不受待见，谁又愿意投入百亿，千亿资金去研发呢？

厚积薄发，一步一个脚印

或许在外人看来，ASML之所以能够成为世界第一的光刻机巨头，是因为发展的时间久。但其实1956年我国便自研光刻机，可是几十年过后，依然没能制造出高端光刻机。

所以根本原因并不是发展时间的长短，要知道ASML最开始有只是一家名不见传的小企业，在日本佳能和尼康面前，根本不值一提。但现如今，ASML已经超越了这两大巨头。

虽然国内发展的光刻机水平还有进步空间，但这是一个厚积薄发的过程。没有任何的成功能一蹴而就，只有一步一个脚印，才能更接近成功。

我国已经确定要布局光刻机了，以前落下的功课，以后会不断补上来，直到成功。

总结

光刻机制造难度比普通机器还要大，如果未来要实现芯片自主生产，就离不开光刻机制造。为了实现2025年70%的芯片自给率，在光刻机的制造上，一定会深入布局。从低端到中端，再从中端到高端，是需要一个过程的。

这个过程可能会持续5年，10年甚至更长的时间，但只要取得成功的那一刻，回头再看这些付出，都是值得的。

对国产光刻机你有什么看法呢？

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