ASML正式官宣！光刻机技术再次突破，国产光刻机还需多少年头？

芯片禁令暴露了我们国家半导体行业的很多的不足的地方，哪怕我国的华为已经拥有了设计顶尖芯片的实力，但是因为没有相对应的芯片制造能力，因此我们国家的芯片仍然要遭遇美国的制裁。这也体现了芯片技术我国究竟是有多么的欠缺。

当然，目前的当务之急是解决光刻机的问题，光刻机技术的缺失也是目前我们国家面临的最主要的问题，毕竟是发展的时间比较晚，所以我们国家的光刻机和荷兰ASML集团的光刻机相比相差了足足两代，这个差距也不是短时间内能够弥补回来的。

尽管我国的中芯国际已经研发出了N+1工艺的光刻机，相当于ASML集团7nm的制程。但是如今还只是实验室阶段，还没有实现量产，然而，ASML同样是有了新的突破。ASML正式官宣！光刻机技术再次突破，国产光刻机还需多少年头？

这一次，荷兰ASML集团新发明的NA EUV光刻机比上一代更先进，足够支撑1nm的芯片制程。并且ASML集团也宣布，这将是ASML集团最后研发的一款基于硅基芯片的制造的光刻机，再往后，ASML集团将会开始一个新的领域的研发。

尽管NA EUV光刻机的价格也比上一代更贵，高达4.5亿美元。但是既然ASML集团已经发明出了现代科技能够达到的最高水准，也是摩尔定律的极限，这就已经是超越了我们国家十年以上。我们国家和ASML集团之间的光刻机技术对比，相差了十年以上。

所以说，好在我们国家也并不是完全将心思放在光刻机技术上面的。光刻机说白了是为硅基芯片而服务的，而我们国家则是干脆换道超车，直接发明出了以石墨烯为基础的碳基芯片，相同规模下碳基芯片的性能要比硅基芯片强大十倍，这才是我们国家真正的杀手锏。期待我国碳基芯片的量产，彻底革了整个芯片行业的命！