任正非说对了！完全国产光刻机出现，却遇到了尴尬问题

不知从何时起，国内在芯片领域的落后问题逐渐被放大，很多读者可能会认为：该问题是随着华为芯片被禁问题而产生的。但事实却并不是这么简单，其实即使华为不曾遭遇全面打压、芯片供应链不断裂，国内在半导体领域的落后依旧存在，至于严重程度也将逐渐增加。

光刻机落后问题最为严重

随着国内最近几年在半导体领域投入的增加，对应的技术也都得到了快速发展，而在芯片材料、制造能力等方面，相比于其他国家落后并不明显，甚至在封装、测试层面还有领先行业水平。

此前，半导体领域人士曾透露：没有光刻机是现如今国内面临的最大问题。从现有局面来看，事实的确如此，虽然我们具备研发、生产能力，但没有生产设备却十分致命。因为这意味着研发能力再强、生产水平再高都无济于事。

不得不提的是，虽说光刻机的研发也在进行，可局限于技术难度大、投入大短期难以成功研发等问题。高精度光刻机实现自主研发仍然需要一段时间，不过在最新消息中，完全自主研发光刻机已经诞生。

与制造商合作困难成尴尬问题

前不久，完全自主研发光刻机成功组装，这是一款完全不包含美国技术产品，同时也意味着国内在半导体领域再进一步。虽然只有28nm制程水准，可对于国内相关行业来说无疑是雪中送炭。

不过尴尬的是，虽然光刻机已经研发成功，但寻求企业合作却成为了新的问题。因为相比于ASML光刻机设备，国产光刻机还处于试用阶段，在产品稳定性等方面仍需改善，不像ASML光刻机，购买后可以直接调试用于生产。

ASML光刻机多年领先行业

对于光刻机而言，荷兰ASML公司无疑最有话语权，在目前超过十款的光刻机产品中，只有ASML光刻机能够为10nm以下芯片提供生产能力。比如我们经常听说的7nm、5nm芯片，几乎都是由该公司光刻机完成的最终生产步骤。

而ASML所产光刻机更是领先行业，比如即将推出3nm制程光刻机产品。对此可能会有读者感到惋惜，毕竟相比之下国内落后不止一点。不过在笔者看来，国内需要的只是时间，从以往情况来看，随着时间的推移国内就没有搞不定的技术难题。

说在最后

早在此之前，任正非就曾表示：虽然美国在许多领域表现出色，甚至拥有垄断实力，不过一旦对技术进行限制，那么一定会有新的技术将其代替。而不是一味地追求美企技术。

总而言之，对于国内来说，实现芯片产品完全自主是毋庸置疑的，可能会付出一些时间、人力、物力。但并不会被老美完全掐住脖子，所以你会点赞支持国内技术研发吗？