再见ASML！中国芯接连突破3大关键技术，中国制造光刻机来了

2020年对于华为来讲，并不好过。国产芯片的供应链在去年一年期间发生了巨大的变化，很多企业都不能够在顺利的采购芯片。但与此同时，很多芯片公司也已经突破了近战。

国产芯片问题刻不容缓

虽然比起国际的主流水准，我们依旧存在着一定的差距，但这也同样说明国产芯片还有很大的发展空间。过去的几十年时间之中，我们一直本着造不如租，租不如买的旧思想在半导体产业资源上分配不均，可是如今在芯片禁令的影响之下，我们重振旗鼓，开始调整方向，在国产芯片上一定会取得巨大的进展。

国内现在已经开始注重半导体领域的投资，包括将集成电路列为一级学科，而芯片企业最高能够免税十年。除此之外，中科院宣布入局光刻机领域也成为了企业们发展的动力。这借二连三的好消息都足以证明我们能够在这方面取得一定的进展。

而在芯片制造过程之中，光刻机成为一个最为重要的关键点，众所周知，荷兰的阿斯麦掌握着全球94%以上的光刻机市场。得益于手中掌握着最先进的光刻机优势，所以在全球领域内能够轻轻松松形成垄断。

三个问题迎刃而解

可如今中国的芯片接连突破三大关键技术，而中国制造的光刻机也真正来了，这一次我们真的要与ASML说再见了。首先，第一项技术就是冰刻技术。有相关媒体报道称，西湖大学目前已经突破了冰刻三维微纳加工技术将会使用，并作为光刻胶的替代品实现其想要的形状以及结构。简言之就是用电子束打在冰层上，让其汽化，从而雕刻出冰。

模板要是到传统的方法是光刻胶在模具上进行清洗，可冰刻技术出来之后，就不需要再过度依赖于光刻胶，光刻胶为芯片制造的重要原材料，一直以来都被美国以及日本等等国家所垄断。现在西湖大学才去用冰刻技术取代光刻胶，冰刻2.0的出现让国人异常兴奋。

第二个就是大族激光光刻机已经实现了小批量的出售，在光刻机领域之中，其应用领域范围还是比较广的，不同领域对不同光刻机设备都是不一样的。而在分立器件之中，以及LED等等领域之中，国产巨头大族激光所研发的光刻机已经实现了小批量销售。据说此次为公司研发的光刻机项目分辨率为3~5微米，主要是用在led等等领域，目前已经实现了小批量的出售。

不过，大族激光所研发的光刻机主要是用在芯片测试场景之中。作为国内专业的激光企业，大族激光为全球客户提供激光加工解决方案。在很多方面都具备国际领先的水准。而此次的这种光刻机更是对于国产芯片来讲有着无比重要的意义。大族激光此次研究出的这种光刻机，成为我国光刻机历史里程碑上浓重的一笔，相信我们很快就要跟ASML说再见了

这第三个技术就是华为海思独自研的独显已经实现了商用。作为国内领先的半导体企业，企业华为海思曾经跻身于全球前十大半导体公司。海思半导体在电脑，电视，手机服务启动等都研发出了芯片，而此次华为还是再次成功自主研发独立显卡，已经实现了商用。

这款产品被叫做是华为海思1GB独显，这足以说明在全新的GPU领域，华为已经实现了一定的突破。虽然比起国内，国际上主流的10GB水准，我们还算是小巫见大巫，但要知道，此次1gb独显的出现以及商用对于我们来讲意义重大。

或许在未来研发的陆承志中，我们会遇到各种各样的难题，有可能我们需要花费大量的时间，经过一代又一代人的研究才能够突破整个领域。但我们应该知道的是，华为并不是一个人战斗。全国大大小小的企业都站在华为的背后，作为华为坚实的肩膀，相信在这样的情况之下，国产芯片界能够迎来更多的突破，并不是什么难事。