早年间,对于芯片的重要性,或许我们都忽视了。
或者说,彼时我们的国力,无法支持我们在研发难度强、投入资金大的半导体领域,能够有所建树,也就导致了长久以来的落后局面。而近来年随着国产科技实力的不断提升,我们既感受到了科技的魅力,也领略了科技落后所带来的阻碍。
其中华为就像是我国科技水平的一个缩影,由于在手机制造技术以及5G通讯领域的领先,华为在一路奏凯的同时,引起了他国的恐慌和忌惮。所以随着而来的是无休止、无底线的"打压",正因为危及了米国通讯霸主的地位以及其半导体领域的发展,所以技术封锁就这么无情的袭来。
而华为所面临到的困难,或许也是我们很多人未曾想到的,缺少芯片的供应导致手机业务急剧缩水,不得已只能出手旗下的子品牌荣耀,而且这个"寒冬"还远远没有过去。为此华为也是早就放弃了幻想,转而潜心"修炼"芯片自研技术,但这又岂是一朝一夕就能实现的,所以"高端芯"的缺失,让我们切身的体会了什么是"剔骨之痛"。
其实这个问题要解决,重中之重就是打破西方国家对于高端紫外光光刻机的壁垒,另外一点就是光刻材料光刻机的问题。但是想要在已有技术的基础上打破封锁,显然是没有机会和能力的,所以另辟蹊径是最好的办法。
好在我们不止有华为,众多的企业和高校都加入到了半导体行业的布局当中,也在着手这方面的相关研究。而在近日更是传出了一个好消息,那就是浙江西湖大学副校长仇旻所带领的团队,在"弯道超车"的道路中,取得了重大突破,而这项新技术便是"冰刻",并希望通过这样的"新技术"来取代已有的光刻机。
很多人都容易把湖畔大学和西湖大学搞混,但其实二者截然不同,西湖大学是在2018年在正式批准的研究型大学,而且计划投入100个亿,并目标在10 年内在学术科研领域超过清华大学。而这项"冰刻"研究计划的领军人正是海归仇旻。
仇旻在2012年从瑞典回国任教之后,不久开始了这个计划,经过了6年的努力,终于完成了国内首台"冰刻"系统的研发工作,也就是实现了零的突破。而现在又过了两年,功能更加健全的"冰刻"系统2.0也已经在路上。
所谓的"冰刻"技术就是用冰取代光刻胶,而且当电子束打在上面之后,也就会自行消失,不存在清洗的难题。这是因为仇旻发现在零下130℃左右的真空中,水蒸气会凝华成一种特殊的冰膜,而其恰巧能够取代管光刻胶进行三维雕刻。
每一项重大技术的突破都需要点滴的积累,这项"新技术"也具备取代光刻机的可能,我们也希望梦想真的有一天能够照进现实,打破现在芯片制造领域的桎梏,不用再受"卡脖"之苦。
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