中国光刻机诞生，探索新出路

     中国光刻机技术取得重大突破 中国制造2025计划再添新瓦. 前天天中科院光电所研发成功的紫外超分辨光刻机被大媒体争相报道，引起相关从业者的高度重视。. 该光刻机光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。. 这距离国际极限7nm又近了一步！. 光刻机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握，因此曝光机价格昂贵，通常在 3 千万至 5 亿美元，并且产量极低并对中国限制购买。. 因此光刻机技术的不足是制约我国半导体发展的重要的因素！.

不要觉得技术不够，从头开始纯国产很不容易。

其实很多年前中国就有了光刻机技术，几乎跟阿斯麦尔是同一时代的产物，这段历史要说说不完网友可以自己看。

目前来看这种光刻机足以军用，但是未来可期。