国产光刻机亮相后，还是打破不了“封锁”！而ASML还在加大产能！

众所周知，我们国内半导体发展一直缺少一个核心的东西，那就是光刻机。而在光刻机的领域当中，一直是ASML处于一个较高的地位，我们需要制造芯片的话需要从ASML手中获得光刻机。

只是有些遗憾的是，ASML因为有些特殊的因素，并不能自由地对我们出货高端光刻机，以至于我们在高端的芯片生产上一直处于一个困境的局面。包括到现在，中芯之前订购的那一台高端光刻机都是没有发货的。因此在这个时候，我们越来越深刻的认识到研究出有自己技术的光刻机变得越来越重要，毕竟我们的芯片要实现真正的自主化，自研发光刻机是必须要走的一条路。

而幸运的是，如今我们在芯片自主化的道路上更进了一步。因为就在近日我们国产的“光刻机”正式亮相了。

根据相关的信息显示，上海微电子举行了新产品的发布会，而在这一场发布会当中上海微电子推出了新一代大视场高分辨率的先进封装光刻机。据悉，新一代的封装光刻机主要应用于一些高密度异构集成的领域，可以帮助晶圆级先进封装企业实现更多芯片高密度互连的封装技术应用。目前，上海微电子已经就这个新的光刻机和多家客户达成了相关的销售协议，而第一台这样的光刻机将会在年内的时候完成交付。

这对于我们国内推进芯片自主产业化发展来说具有相当重要的意义。不过，这一台光刻机的亮相倒是引发了不少的争议。不少的网友认为，这样的光刻机并不能缓解我们当下被限制的局面。简单点来说，这个消息没有什么值得好高兴的。

从某种角度上来说，这不能缓解当下被限制的局面的言论是正确的。刚刚在文章的前面小编就说过，我们无法从ASML手中获得高端的光刻机，而这也是我们当下最缺少的核心技术。在这个时候，想要彻底的打破封锁，我们只能在芯片光刻机上突破，当下这所谓的封装光刻机并不能打破“封锁”。

但小编并不认为这个消息就不值得高兴了。要知道虽然封装的光刻机并没有如芯片光刻机一样需要较高的技术含量，但这始终是我们自己的东西。而是我们自己的技术，就意味着在这一方面我们并不需要被卡脖子。所以，小编还是认为这对于国内半导体发展来说有很大的作用。

不过与此同时，小编还是很担忧国内半导体在芯片光刻机上到底要多久才会有更好的成绩出来。毕竟现在ASML的地位越来越高。比如说在近日，ASML就宣布要全面的提高高端光刻机的产能。值得注意的是，截止在今年的第二季度，ASML的EUV光刻机出货量就高达了102台。在这个时候，ASML还在宣布扩大产能，不难看出ASML在高端光刻机上被需要的地位正在与日俱增。

而ASML的地位越高，这对于我们来说并不利。这意味着EUV的时代已经来了，而我们在DUV的光刻机上都没有拿出和ASML抗衡的技术。换句话说ASML正在逐渐的拉开这个差距，且这个差距还越来越大。如此情况下，我们到底要什么时候才能追赶上？

写在最后

我们并不能因为现在就缺少自研发的高端芯片光刻机就指望着中国的半导体企业现在就要拿出成绩来，毕竟大家都知道我们中国半导体在过去并不是有多深厚的技术底蕴。能够在现在看到国内半导体有了一个新的变化的时候，我们应该知足。而不是用言论让其背负太多压力。只有一步一个脚印，稳扎稳打的来我们才有更多的希望。你们说是吗？欢迎留言评论、点赞和分享！