不需要EUV光刻机也能生产5nm芯片？
据日媒报道， 日本铠侠自2017年开始与半导体设备厂佳能icon，以及光罩、模板等半导体零组件制造商DNP合作，在日本三重县四日市的铠侠工厂内研发纳米压印微影技术(NIL)的量产技术，目前铠侠已经掌握了15nm的量产技术，并正在向15nm以下的工艺研发，预计2025年开始生产。
重点来了：
根据DNP说法，NIL技术电路精细程度可达5nm，DNP将从2021年春季起，根据设备的规格进行内部仿真。
这是不是意味着不需要EUV光刻机也能生产5nm芯片？
- 发表于:
- 原文链接：https://kuaibao.qq.com/s/20211021A0EEL200?refer=cp_1026
- 腾讯「腾讯云开发者社区」是腾讯内容开放平台帐号（企鹅号）传播渠道之一，根据《腾讯内容开放平台服务协议》转载发布内容。
- 如有侵权，请联系 cloudcommunity@tencent.com 删除。
相关快讯
扫码
添加站长 进交流群
领取专属 10元无门槛券
私享最新 技术干货
腾讯云开发者
