凸版、EVG联合开发纳米压印光刻技术

集微网消息，据外媒报道，奥地利设备厂商EVG公司日前宣布与凸版印刷分拆成立的光掩膜子公司Toppan Photomask合作，共同开发纳米压印光刻 (NIL) 技术，进一步加速其在光学微纳制造领域应用。

根据双方达成的协议，EVG 和 Toppan Photomask 将结合各自在掩模版和设备、工艺开发上的经验，提供 NIL 开发套件。EVG 还将在奥地利总部向感兴趣的企业客户提供纳米压印产品与技术演示。

EVG企业技术开发和IP总监 Markus Wimplinger 表示：“我们很高兴与 Toppan Photomask 合作，将纳米压印光刻技术带入主流制造应用。纳米压印工艺设备提供商与纳米压印母版制造商之间的首次合作是该行业的巨大成就，将帮助我们的客户迅速扩大纳米压印作为先进光学设备的大规模生产技术和组件。”

与传统光刻相比，纳米压印是一种更为简化的图形化工艺，在存储器、 光电器件、光学组件以及生命科学领域有广泛应用。

(校对/武守哲)