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盛美上海推出新型热原子层沉积立式炉设备

盛美上海近日宣布其对300mm Ultra Fn立式炉干法工艺平台进行了功能扩展,研发出新型Ultra Fn A立式炉设备。该设备的热原子层沉积(ALD)功能丰富了盛美上海立式炉系列设备的应用。

公司还宣布,首台Ultra Fn A立式炉设备已于本月底运往中国一家先进的逻辑制造商,并计划于2023年底通过验证。

盛美上海董事长王晖表示:“全新ALD立式炉设备基于公司现有的立式炉设备平台,搭载差异化创新设计,软件算法优化等实现原子层吸附和均匀沉积。”

盛美上海新型热ALD设备可沉积氮化硅(SiN)和碳氮化硅(SiCN)薄膜。出厂的首台Ultra Fn A设备将用于28纳米逻辑制造流程,以制造侧壁间隔层。此工艺要求刻蚀速率极低,且台阶覆盖率良好,与其他实现模式相比,Ultra Fn A立式炉设备在模拟中实现了均一性的改善。(文:拓墣产业研究 Amber整理)

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  • 原文链接https://kuaibao.qq.com/s/20220928A03J2J00?refer=cp_1026
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