南大光电：ArF光刻胶产品已通过两家企业验证

集微网消息（文/白雨轩）11月23日，南大光电在接受机构调研时表示，公司ArF光刻胶产品分别通过一家存储芯片制造企业和一家逻辑芯片制造企业的验证，目前多款产品正在多家客户同时进行认证。

据南大光电透露，公司的光刻胶主要检测设备（如光刻机）已经安装调试完毕，并正常投入使用。

此外，关于年产45吨半导体先进制程用前驱体产品市场前景，南大光电称，本次募投的年产45吨半导体先进制程用前驱体产品产业化项目预计建设期为1年，生产期14年，静态投资回收期为4.09年，市场前景良好。

针对宏观经济波动会对公司业绩造成的影响，南大光电表示，公司量产产品包括MO源、半导体前驱体、电子特气、光刻胶及配套材料等，可在薄膜沉积、光刻、蚀刻、掺杂、清洗等多个集成电路制造流程中实现应用。除了受到宏观经济的影响之外，本公司业绩增长更多是受到电子信息技术和集成电路产业的影响，这也是近年来公司在面临经济增长放缓情况下，仍实现良好增长的重要原因。

据了解，公司是从事先进电子材料生产、研发和销售的高新技术企业，产品广泛应用于集成电路、平板显示、LED、第三代半导体、光伏和半导体激光器的生产制造。公司产品分为先进前驱体材料、电子特气和光刻胶及配套材料三个板块，目前主要收入贡献来自于先进前驱体材料和电子特气。

（校对/黄仁贵）