要想要生产制造先进制程的芯片,就必须要有先进的光刻机,在全球范围内,目前光刻机技术最先进的厂商是ASML。
据悉,ASML生产制造的光刻机几乎占领了中高端市场,尤其是DUV光刻机和EUV光刻机,在这两种光刻机中,EUV光刻机最为重要。
因为EUV光刻机是生产制造5nm、3nm等芯片必要设备,关键是目前仅有ASML能制造。
另外,EUV光刻机被制造出来后,其就供不应求,今年的产能是45台,预计未来两年将生产制造115台。
也就是因为EUV光刻机是当下最先进的技术,再加上,其又供不应求,所以ASML的EUV光刻机在没有许可的情况下,是不能自由出货的。
EUV光刻机不能自由出货,很多人都认为这是因为美修改规则,毕竟ASML又采用美技术,所以美不允许ASML自由出货EUV光刻机。
但实际上,EUV光刻机能否自由出货,并非美一家说得算,因为ASML的EUV光刻机采用了多达42个国家的核心技术,凡是有一个国家不同意,其就不能自由出货。
例如,ASML采用了美国的光源技术、德国徕卡镜头和多层膜技术以及其他国家的真空技术、抗腐蚀技术、掩模照明光学系统等。
可以说,EUV光刻机的零部件超过10万个,其中,光源技术、微缩投影光学系统等8项是最核心的技术。
可以说,这些核心元器件来自不同国家的企业,才促使ASML生产制造出来这么先进的设备,所以在EUV光刻机出货方面,需要42个国家都同意才能够自由出货,并美一家。
当然,就目前而言,ASML是基于自由出货EUV光刻机,而ASML自由出货EUV光刻机的最大阻碍就是美,毕竟,其他国家都同意,是美修改规则禁止ASML自由出货的。
否则,ASML也不会公开发出警告,限制ASML等自由出货,这不利于全球芯片产业的发展,甚至在未来15年后,ASML的光刻机在中国市场或许就没有份额了。
还有一点就是,ASML近年来一直都在提升EUV光刻机的产能,预计在2021年、2022年和2023年共计生产160台EUV光刻机。
而ASML加速提升EUV光刻机的产能,实际上就是想加速EUV光刻机的普及,解决EUV光刻机供货不足的问题。
也就是说,EUV光刻机技术大量普及后,而EUV光刻机的产能又大于求的时候,ASML自然就能够自由出货了。
更何况,ASML已经开始正式生产制造全新一代EUV光刻机,计划在2023年下线商用,届时,现款EUV光刻机自然也就不是什么最先进的技术了。
可以说,ASML加速提升产能,并正式生产制造全新一代EUV光刻机,这是一个好消息,毕竟其利于现款EUV光刻机自由出货。
一旦ASML实现EUV光刻机自由出货,国内芯片制造企业就解决了所有Seven纳米芯片的生产问题,毕竟用DUV光刻机生产制造成本高、效率低。
关键是,有了EUV光刻机,国内厂商还能全面进入5nm、3nm等制程芯片的研发生产工作。
国产光刻机好消息也不断
除了ASML带来的好消息外,国内在光刻机技术方面也取得了不少的突破,像光源技术、光刻胶技术等。
最主要的是,国内厂商预计在年底就能够建设国产28nm芯片生产线,而全新一代上海微电子的光刻机预计在今年底或明年初下线投产。
也就是说,国产28nm等芯片建厂后,再加上国产新一代光刻机的到来,国内芯片需求问题就解决了七八成。
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