光刻胶光致抗蚀剂混合液体成分配方定性定量

光刻胶，又称光致抗蚀剂或光阻，是指通过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射后，其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料。

它是一种对光敏感的混合液体，在光刻工艺过程中用作抗腐蚀涂层材料。

光刻胶通常由以下四大核心组分构成：

1. 成膜树脂

G线/I线光刻胶：常用酚醛树脂作为成膜树脂

KrF光刻胶：常用聚对羟基苯乙烯及其衍生物

ArF光刻胶：常用聚酯环族丙烯酸酯及其共聚物

EUV光刻胶：常用聚酯衍生物和分子玻璃单组分材料等

2. 感光剂/光引发剂

正胶感光剂、负胶感光剂、深紫外光刻胶

3. 溶剂

丙二醇甲醚醋酸酯、环己酮、乙二醇草乙醚、乙酸丁酯等。

4. 添加剂

表面活性剂、增粘剂、偶联剂、抗反射染料、碱性抑制剂、均染剂等