对不起，让美国失望了！中国取得重大突破，告别光刻机的时代来了

前段时间美国一直在利用各种手段打压中国，但是也没有起到作用，更是直接限制美国企业向中国提供芯片制造的原材料，让中国的芯片领域受到了影响，因为现在我们还没有自主研发技术，但是对不起，让美国失望了，最近中国取得了重大突破，告别光刻机的时代来了。

根据中关村在线的相关消息，芯动科技已经完成了世界上的第1个n+1的芯片流片测试，然而这一工艺是全部都是我国自主生产的，而且不需要euv光刻机，性能更加强劲，与先进水平相比有一些不足的地方，不过这已经是重大的突破，接下来还会不断进步。

这个消息被公布出来之后，很多人都非常的开心，也就是说现在虽然没有了，那我们也一样可以通过增加一个，这样就能够完成国产的芯片制造，其他国家的限制根本就起不到任何的作用。此次突破主要是芯动科技和中芯国际，这两个中国企业在不断的努力之下而形成的，其实在2019年的时候，中国就已经有了n+1公工艺，在此基础之上经过不断的讨论，率先完成了NTO流片，使得n+1工艺越来越成熟。在两个公司的相互配合之下，终于突破了瓶颈期，现在已经基本成熟，接下来还会继续提升的性能。

不得不说这次真的让美国失望了，他们就是想要通过这种方式来限制中国的发展，影响我们的发展进程，但是没想到这根本就没有起到作用。而且在这种压力之下，我国厂商的研发工作进展得越来越快，让我们的发展进程快了很多，美国反而承担了更大的损失 。毕竟当中国拥有了成熟的技术之后，就会有很多国家转头向中国这边进行合作，这一点上也不再继续由美国和其他西方国家所垄断，到时候他们缺少了客户和合作伙伴，那么就会给他们的经济带来影响，这就是美国为这件事所付出的代价。

从这件事中我们看出的更多的是，像中芯国际和芯动科技这样的中国的厂商强强联手取得的突破，而中国芯片的未来正是这些公司和厂商的共同努力，携手并进，这样才能够取得更大的突破。除此之外值得一提的是，最近弘邦高纯新材料项目也进入到了带料试车阶段，也就是说这将会马上就要打破中国半导体原材料受到其他国家的垄断的局面，在未来中国在这一方面完全不再需要其他国家的限制和垄断。

综上所述，如果想要真正的不被任何国家所限制，那么就需要不断的提升自主研发能力，如果想要实现的话，还是需要各厂商的通力合作，现在中国在这点上做的非常好，无论是技术还是材料都在不断的努力也取得了一些不错的成绩。正是因为这些努力和突破，所以才让中国的国产芯片逐渐成熟起来。其实如果美国能够友好的与中国之间进行合作的话，那么双方都会实现共赢的局面，毕竟中国的市场是非常庞大的，但美国的技术也足够成熟，强强联合更是能够取得非常不错的成绩，但是美国不这样，而是一味的进行的限制。

如今在工艺上，我们已经取得非常不错的突破想象，接下来该技术会越来越成熟，到时候也会有越来越多的国产厂商加入到研发中，那么就会取得更多的突破，未来中国行将会在大家的努力之下走入国际高端行业，到时候中国的科技实力还会更进一步，在科技领域的发展也会实现新的突破，科技改变生活，同时也意味着一旦科技取得进步，在其他领域也会拥有不小的成绩，随之而来的就是中国在国际上的综合实力和影响力会逐渐提升。