不用光刻机，中国照样造5纳米芯片？“雕版印刷术”能否突破壁垒

在如今快速发展的年代，世界上所有的国家都在大力的发展科技水平，而半导体行业是近现代科技发展的一个主要目标。

目前中国在半导体领域内受到了美国的制裁，国内多家科技企业都遭到了影响，主要原因是中国还没能自行研发出高性能光刻机，但前不久一个好消息传来，国内一个科研团队研究出了一种新的芯片制造技术，不用光刻机，也能让中国公司照样制造5纳米级别的高性能芯片，引发了广泛的关注。

据称这一技术名为纳米压印技术，简单来说就是制造一个尺寸在纳米级别的雕版印刷版，然后用它在晶圆上印刷制造电路，那么这个“雕版印刷术”能否让中国突破壁垒呢？

这项技术就是“云手机”，云手机说简单点就是通过网络连接到云端服务器，实现一系列的手机操作。

当然云手机这一种技术对于网速的要求特别高，如果网速太慢，并不能够及时反馈，那么云手机的存在将毫无意义，但中国在5G技术方面遥遥领先于全世界。据悉中国的5G技术普及速度为世界之最，截至今年年底，中国将会搭建超过70万个5G基站。

根据中国科学家的说法，目前在实验室里中国科学家已经可以加工出表面结构尺寸10纳米级别的压印雕版，并用它在硅片表面蚀刻出复杂而精密的结构，加工精度甚至比10纳米级别的光刻机还要高，这样的精度已经可以用来制造一些性能较高的芯片，而现在中国科学家正在对这一技术进行更多测试，希望制造出尺寸更大的压印雕版，实现一次对一整片晶圆进行光刻。

这一技术的出现给中国半导体产业带来了一针强心剂，可以预见一旦这一技术发展成熟，中国摆脱美国的半导体封锁就指日可待。