国产5G芯片冲击大,美国欲废中国光刻机,外媒:妄想
5 G的国产电话会造成多大的冲击?华为 MateX5是参加"一带一路"高峰论坛的三个国家礼物中的一件,上个月美国加州省长访问期间,一些出席会议的人把华为mate60Pro电话放在了桌子上,显示出了中国5 G电话的重要地位。
华为在5 G手机上搭载了麒麟9000 (麒麟9000),这是3年来备受关注的5 G手机,也是国内芯片制造产业链的重要一步。
半导体行业是一条非常漫长的链条,除了对普通民众而言非常关键的光刻机之外,更多的则是刻蚀机,以及光刻胶等等,唯有将所有的东西都做到了本土化,这一次麒麟9000的推出,更是印证了国内的半导体行业已经形成了一条完善的产业链。
美国商业部的次官艾伦-埃斯特威茨(Alan Estravez)认为,一旦中国无法获取其关键元件,且光刻机已逐渐老化,中国半导体工业的发展将遇到阻碍,换句话说,作为关键装备的光刻机,若不加以保养,将成为一堆废铁。
为了达到这个目的,美国打算更多地禁止像 ASML这样的光刻机厂商进入中国市场,并在1930年代禁止 ASML将65 nm的光刻机出口到中国,以此来遏制中国的晶片工业。
日本走在最前面,在第一个月封锁了二十三项晶片器材及原料, ASML紧随其后,也只准卖给中国卅八吋1980 Di,而中国却在短短六个月内,制造出麒麟9000等更高品质的晶片,打破了他们的如意算盘。
ASML在中国取得重要进展后,最先作出回应的是在九月上旬 ASML公司,它已经获得了2000块7 nm光刻晶片进入中国市场的许可,而最新发布的报告表明, ASML公司的营收从中国获得了46%的收益,较上年同期的8%增长了四倍以上。
国产5 G光刻机的发布,标志着中国在光刻机上取得了巨大的进展, ASML迫切地想要卖掉2000型光刻机,这也是对中国在高端光刻机上的认可,即便未来 ASML不能供应相关零部件,中国也完全可以用国产部件来保证自己的光刻机不被淘汰。
中国在持续监测已有的硅晶片技术的同时,也在发展更高级的量子及光电子晶片,以协助中国完成「弯道超越」,到时候中国在晶片科技上的优势就会更大。
最近,清华大学发布了一款 ACCEL芯片,该芯片只需要使用100 nm的制程,而该芯片的制造则可以使用180 nm的 CMOS制程,通过反向制造,可以将芯片的性能提升三千倍,达到现在的7 nm制程,这是中国在半导体领域走出的一条新道路。
中国在晶片上的成就可谓丰硕,美国曾经企图销毁中国光刻机是不现实的,光刻机之父林本坚持中国目前的设施可以制造5 nm制程的晶片,林本坚的判断是中国科技取得重大进展的有力证据,所以外国媒体才会觉得美国多虑了。
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