应用材料公司发布SEMVision G7

3月14日，应用材料公司在SEMICON China 2018开幕当天，发布了其市场领先的SEMVision™系列缺陷检测和分类技术最新产品。应用材料公司称，采用最新成像技术和增强的机器学习能力的SEMVision G7系统，是目前市面上唯一具有高分辨率缺陷成像，以及经生产验证、具有先进机器学习智能的DR-SEM*系统。它有助于芯片制造商更快对缺陷进行分类，找出根本原因并解决良率问题。

SEMVision G7系统进一步拓展了成像能力，可以对关键缺陷进行检测，包括在晶圆边缘斜面和侧面位置。这些地方的缺陷若未能及时发现，可能会导致芯片的良率下降。利用全新机器学习算法进行实时自动分类和缺陷分析，可以确保精准和一致的工艺控制，加速提升芯片制造商实现稳定的生产工艺。

除了独特的晶圆边缘斜面和侧面位置的成像能力之外，SEMVision G7还改进了无图案晶圆的光源和收集系统，实现了18纳米缺陷的光学检测。无图案晶圆上的缺陷识别和表征，为芯片制造商提供了表面形貌和材料等信息，可以帮助确定缺陷的来源并用更快的时间进行纠正。

应用材料公司表示，Purity™ II技术是业内唯一经全面生产验证的Purity™ ADC的技术。此项技术拓展了SEMVision G7系统的机器学习能力，使它能够学习工艺变更情况，并在运行过程中调整自动统计分类引擎。全新的机器学习能力将工程设计数据与SEM图像结合起来，能产生基于位置的缺陷分类，实现更准确的环境情况输入，且加速根本原因的分析。全新的缺陷提取算法，能够优先分拣出在分类引擎中预定义的缺陷，确保至关重要的缺陷能够先被突出与显示出来。通过使用机器智能学习实现快速准确的自动缺陷检测和根本原因分析，Purity II ADC能够加快工艺提升并实现卓越的良率管理。