在今年的ECTC会议上,新加坡A*STAR报道了其与Marvell合作的基于FOWLP封装技术的硅光引擎。小豆芽这里对相关技术做一个简单介绍。
为了降低封装寄生参数对信号带宽的影响,人们在光引擎中引入3D封装技术,缩短连接距离,用于支持更高速率信号的传输。相比于TSV技术,FOWLP(Fanout Wafer Level Packaging)技术更加成熟、成本更低,因此有望利用在CPO的封装中。Broadcom最新一代的CPO系统中已经将TSV方案替换为FOWLP方案。A*STAR基于其硅光平台,也引入了FOWLP技术,在前两年的ECTC会议上也报道过相关进展。
A*STAR的光引擎截面如下图所示。PIC芯片嵌入在molding材料中,molding材料中引入垂直连接的金属VIA, 即TMV(through molding via)。TMV的高度为300um, 与PIC正面和背面的RDL金属相连。其中正面有两层RDL金属,背面有一层RDL金属。背面的RDL通过C4_bump与基板相连,正面的RDL通过micro bump与EIC芯片相连。
(图片来自文献1)
从基板传递过来的高速信号,经过C4_bump、TMV、frontside RDL这一链路,传递到EIC处。该链路的实测与仿真结果如下图所示,回损小于-20dB, 插损小于0.15dB。
(图片来自文献1)
A*STAR在其封装流程中引入了cavity结构,用于放置laser diode和保护光口。整个FOWLP的工艺流程如下图所示,首先在PIC芯片表面加工出cavity结构,其次将PIC芯片倒置在mold plate上,接着开始molding工艺,形成晶圆,并在molding引入TMV, 将PIC从mold plate上剥离,并在正面加工出两层RDL金属。Fanout wafer随后临时键合到carrier wafer上,将wafer减薄到300um,并在芯片背面加工一层RDL金属。最后在芯片正面倒装电芯片等。
(图片来自文献1)
实际加工好的光引擎截面如下图所示,可以看到TMV、RDL、C4_bump之间形成了良好的电连接。
(图片来自文献1)
作为对比,Broadcom的FOWLP光引擎截面如下图所示。与A*STAR相比,Broadcom是将EIC芯片嵌入在molding中,PIC倒装在EIC芯片上。Broadcom的FOWLP方案对EIC的散热不是很友好。
(图片来自文献2)
A*STAR与Marvell合作的光引擎,芯片尺寸为8.3mm*13mm。光引擎中包含一颗较大的PIC芯片,两颗Driver芯片,两颗TIA芯片,四颗DFB激光器和相应的驱动芯片。单颗Driver/TIA芯片支持4通道。
(图片来自文献1)
对于该光引擎的链路性能,文章中只展示了100G PAM4的眼图结果,如下图所示。
(图片来自文献1)
以上是对A*STAR/Marvell基于FOWLP技术光引擎的简单介绍,其将PIC芯片嵌入到molding中,并加工出TMV与RDL用于高速信号的互联。其链路在40GHz的插损小于0.15dB,回损小于-20dB,可以支持单波200Gbps PAM4的信号传输 。与Broadcom的方案相比,A*STAR的FOWLP方案中PIC与EIC的位置互换,功耗较大的EIC芯片倒装在PIC芯片上,有利于EIC芯片的散热,但是由于PIC嵌入在molding中,需要对光口做特别的保护处理。Marvell此前在其3D光引擎中引入了TSV-last技术,从PIC芯片背面引入TSV。比较有意思的是,Broadcom和Marvell都先后从TSV方案转向FOWLP方案,并没有坚持走TSV路线。相比于传统的wire-bonding封装方案,FOWLP技术有助于实现更多通道的光引擎,提升带宽密度,发挥硅光集成的优势。
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参考文献: 1. S. B. N. Gourikutty, et.al., "A Compact Wafer-Level Heterogeneously Integrated Scalable Optical Transceiver for Data Centers", ECTC 2024
2. https://chipletsummit.com/proceeding_files/a0q5f0000044zma/20240206_PreConD_Mehta.PDF