把握命运的喉咙，深度了解国产光刻机研发进度

人工智能时代与5G时代携手而来，更有相关媒体声称第四次工业革命已经到来，而上述两项顶尖技术便是第四次工业革命的标志性技术。支撑人工智能与5G技术，除了相应的协议与软件开发，硬件设施也需要同步跟上，尤其是各类芯片更成为了关键中的关键。而光刻机则是生产大规模集成电路芯片的核心设备。

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长期以来，光刻机一直被荷兰ASML公司、日本尼康、佳能公司把持相关技术，并且受到五眼联盟的相关协议制约，限制出口到中国大陆地区，并且每一台光刻机的价格非常昂贵，这也导致国内的半导体行业的命脉始终掌握在别人的手里。

长期以来致力于光刻机研发的上海微电子（上海光机所）、长春光机所等机构或公司也有一些新的突破，其中，上海微电子预计将于2021年交付首台国产28nm的immersion光刻机，距离ASML公司的顶尖技术仍有相当的差距。

为何光刻机这么难做？原因在于光刻机涉及到的零件多达80000多个，大部分零件都是由国际顶尖公司提供，比如光刻机中比较关键的镜片、反光镜及其他光学部件，由蔡司公司提供；虽然顶尖的光刻机由荷兰ASML公司生产，但它的工作反而更像是一家“组装厂”，汇集全球各项顶尖技术，组装出一台地球最高工艺水准的光刻机。

相比之下，从关键部件上来看，比如光学元件，国内的相关供应商就与蔡司存在一定的差距，其他关键元器件上也有相应的差距存在。整体上来看，生产光刻机的原理已经很清楚，但相关产业链的技术水平相较于全球顶尖水平存在的差距限制了国产光刻机研发、量产的速度，也因此国产光刻机的进度迟迟不能跟上国际领先水准。