近年来，随着半导体尖端制程工艺越来越逼近物理极限，荷兰光刻机大厂ASML生产的EUV光刻机已经成为了继续推动晶体管微缩的关键设备，而当制程工艺进入2nm以下的埃...

本文将探讨了缺失值插补的不同方法，并比较了它们在复原数据真实分布方面的效果，处理插补是一个不确定性的问题，尤其是在样本量较小或数据复杂性高时的挑战，应选择能够适...

鉴于单细胞测序和微生物测序在生物信息分析方面有着惊人的相似性，微生物本身是单细胞，而单细胞测序也可以分析微生物信息，比如今天我们要踩坑的SAHMI(Single...

5月30日消息，光刻机大厂ASML在imec（比利时微电子研究中心）的ITF World 2024会议上宣布，其首款High-NA EUV光刻机已创下新的晶圆制...

当地时间4月18日，英特尔公司宣布在俄勒冈州希尔斯伯勒的研发基地达成了先进半导体制造领域的一个重要里程碑，完成了业界首个商用High NA（高数值孔径）极紫外（...

该数据集提供了 2016 年 8 月、2017 年 6 月和 9 月以及 2018 年 7 月至 8 月期间在阿拉斯加七个地点进行的解冻深度测量。其中三个地点是...

但是让我没有想到的是这个研究仅仅是花费在单细胞转录组测序上面的的科研经费就高达两三百万，因为有多达89个的10x技术的单细胞转录组样品数据。详见：https:/...

开门见山，直接展示代码 （以下编译环境是在windows平台visual studio2019）

2月29日消息，据外媒Tomshardware报导，ASML与英特尔于本周宣布达成了High NA EUV的重要里程碑。ASML已向英特尔交付的最先进High ...

这个狡猾的数据集（GSE133283）对应的文章是：《Single-cell transcriptomics reveals functionally spec...

代码链接 https://mrvollger.github.io/StainedGlass/ https://github.com/mrvollger/Stai...

2月26日，据imec（比利时微电子研究中心）官方消息，在“2024 年先进光刻 + 图案化会议上”，imec将展示 EUV 工艺、掩模和为实现高数值孔径（Hi...

继不久前对外公开展示了面向2nm以下尖端制程制造的High NA EUV光刻机之后，近日，AMSL在其2023年度报告当中还披露了其未来更为先进的Hyper-N...

近日，全球光刻机大厂ASML首次在其荷兰总部向媒体公开展示了最新一代的High NA EUV光刻机，除了已经率先获得全球首台High NA EUV光刻机的英特尔...

归一化差雪指数 (NDSI) 雪盖是与像素中雪的存在相关的指数，与分数雪盖 (FSC) 相比，它是雪检测的更准确描述。雪通常具有非常高的可见光 (VIS) 反射...

经过十年的研发，ASML 于 2023 年 12 月正式向英特尔交付了首个High NA（高数值孔径）EUV 光刻系统——TWINSCAN EXE:5000的首...

在网上查了之后有一个说是决定考与tomcat位数不一致： 原贴地址：https://www.cnblogs.com/yuxiaole/p/9247610....